[发明专利]铁氧体烧结体和使用了铁氧体烧结体的电子部件以及电源装置有效

专利信息
申请号: 201510089272.8 申请日: 2015-02-27
公开(公告)号: CN104876558B 公开(公告)日: 2018-09-07
发明(设计)人: 森健太郎;安原克志;蒲生正浩 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: H01F1/36 分类号: H01F1/36;C04B35/26;C04B35/622
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 铁氧体 烧结 使用 电子 部件 以及 电源 装置
【说明书】:

本发明提供不设置带来铁氧体烧结体的成本增加那样的特别的包覆层等且具有高的强度的铁氧体烧结体,以及提供使用了上述铁氧体烧结体的强度优异的电子部件,以及提供使用上述电子部件且具有高可靠性的电源装置。本发明所涉及的铁氧体烧结体,其特征在于,是用于变压器或者扼流线圈等电子部件所使用的铁氧体烧结体,在从铁氧体烧结体的最表面向内部直至包含最表面的烧结体厚度的三分之一的范围附加有压缩应变。

技术领域

本发明涉及高强度的铁氧体烧结体。另外,本发明涉及使用了这样的铁氧体烧结体的电子部件。另外,本发明涉及使用了这样的电子部件的电源装置。

背景技术

近年来,电子设备的小型化和高效率化不断发展,电源装置等所使用的电子部件也强烈要求小型化、高效率化。为了小型化、高效率化,对于线圈或变压器等电子部件所使用的铁氧体烧结体要求低损耗特性。

以往,铁氧体烧结体为了使其磁特性成为优异的低损耗特性,而以在烧结后不残留应变的方式进行制造。原因在于,如果在烧结后应变残留,则由于该残留应变,在铁氧体烧结体产生残留应力而引起导磁率的降低或磁损耗增加这样的磁特性的恶化。

例如,在专利文献1所记载的低损耗氧化物磁性材料中,通过控制烧成工序的冷却速度来减少残留应力并减小磁损耗。另外,例如在专利文献2所记载的软铁氧体的制造方法中,在铁氧体成型体的烧成时,在成型体与陶瓷制敷板之间散布有氧化锌等粉末。由此阻止来自铁氧体的脱锌反应,改善由于尖晶石相的晶格常数的收缩而产生的拉伸残留应力引起的磁特性的劣化。另外,例如在专利文献3所记载的铁氧体芯中,通过用由玻璃组合物构成的被膜层覆盖芯部的表面,从而利用芯部与包覆层的热膨胀系数之差降低残留应力而改善初始导磁率。此外,记载了能够通过被膜层发挥牺牲膜的作用来有效地防止芯部的破损等。

如专利文献1、2、3所示,到目前为止,为了不使铁氧体烧结体的磁特性恶化,强烈要求消除由于残留应变而产生的残留应力。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2007-204349号公报

专利文献2:日本专利第2833722号公报

专利文献3:日本专利第5195669号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

如专利文献1、2、3所示,到目前为止,认为在铁氧体烧结体所残留的应变即由于残留应变产生的残留应力是不需要的,因而尽努力最大限度消除。

在专利文献1所记载的低损耗磁性材料的情况下,以不在烧结后产生残留应力的方式规定了烧成工序。在专利文献2所记载的软铁氧体的制造方法中,通过阻止铁氧体的脱锌反应,从而改善了所产生的残留应力所引起的磁特性的劣化。但是,在上述专利文献1、2中,对铁氧体烧结体的强度(抗应力)与残留于铁氧体烧结体的应变的关联性没有作任何考虑。在线圈或变压器等电子部件所使用的铁氧体烧结体中,有许多用树脂等覆盖整体的烧结体或粘接一部分的烧结体,或者用金属零件等固定的烧结体等恒定地接受外部应力那样的烧结体。出于这样的背景,要求高强度的铁氧体烧结体。

另外,在专利文献3所记载的铁氧体芯中,记载了通过附有包覆层来缓和芯的残留应力并改善初始导磁率,而且通过被膜层发挥牺牲膜的作用能够有效地防止芯部的破损等。关于专利文献3,由于通过具有被膜层来防止破损等,因此认为强度提高。但是,即使通过具有被膜层来例如提高强度,烧结体本身的强度(抗应力)也不会提高,而且具有涂布由玻璃组合物构成的被膜层这样的做法带来成本增加的不利情况。另外,虽然提到了强度,但是关于抗应力并没有呈现任何数据。

另外,如专利文献2、3中所示,到目前为止,努力消除残留在从铁氧体烧结体的最表面起数百μm的应变所致的残留应力。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510089272.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top