[发明专利]彩膜基板、制造方法及液晶面板有效
申请号: | 201510080747.7 | 申请日: | 2015-02-13 |
公开(公告)号: | CN104597656B | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 陈杰 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/13;G02F1/1333 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人: | 郝传鑫,熊永强 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 彩膜基板 制造 方法 液晶面板 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示制造领域,尤其涉及一种彩膜基板、制造方法及液晶面板。
背景技术
目前,液晶显示装置作为电子设备的显示部件已经广泛的应用于各种电子产品中液晶显示装置,液晶面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板、以及夹设在阵列基板和彩膜基板之间的液晶,在所述彩膜基板与阵列基板之间形成封闭液晶的胶框,所述彩膜基板与阵列基板之间设有支撑物。在制造过程中,为了确保胶框具有足够的支撑强度,会在胶框成型时掺杂纤维,但是需要较多的纤维原料以及相应的设备,如此增加了生产成本
发明内容
本发明提供一种彩膜基板及其制造方法,可以保证胶框支撑强度,并且节省成本。
本发明还涉及一种液晶面板。
本发明提供一种彩膜基板,其包括基体、黑矩阵层、色阻单元层、公共电极层,所述黑矩阵层及色阻单元层形成于所述基体的同一表面上,所述公共电极层覆盖所述色阻单元层,所述彩膜基板上位于所述基体周缘还设有胶框,所述胶框内嵌设有凸起,所述凸起在色阻单元层形成时由色阻堆积形成。
其中,所述色阻单元层包括数个RGB色阻单元。
其中,所述凸起由一种颜色色阻形成或者由多种颜色的色阻堆积形成。
其中,所述RGB色阻单元包括第一色阻、第二色阻及第三色阻。
其中,所述色阻单元层图案化包括三次曝光显影,所述凸起在所述三次曝光显影中的至少一次形成。
本发明还提供一种彩膜基板的制造方法,所述方法包括,提供一基体;
在基体上形成黑矩阵;其中,所述基体形成有黑矩阵的表面周缘与设有胶框区域,
在所述基体上涂布RGB色阻层,所述RGB色阻层中的至少一种色阻堆积于所述胶框区域;
对所述RGB色阻层进行图案化形成色阻单元层,同时在所述胶框区域上形成由RGB色阻堆积而成凸起;
在所述基体上图案化形成公共电极层,所述公共电极层覆盖所述色阻单元层;
在所述胶框区域注入塑胶形成胶框,其中,所述凸起嵌设于所述胶框内。
其中,在所述“对所述RGB色阻层进行图案化形成色阻单元层,同时在所述胶框区域上形成由RGB色阻堆积而成的凸起”的步骤中,包括在所述基体上依次涂布第一色阻层、第二色阻层及第三色阻层,并分别对应进行曝光显影形成色阻单元层的步骤;以及,在第一色阻层、第二色阻层及第三色阻层进行曝光显影中至少一次曝光显影形成所述凸起的步骤。
其中,所述在第一色阻、第二色阻及第三色阻进行曝光显影中至少一次曝光显影形成所述凸起的步骤中包括,第一色阻曝光显影后形成凸起或者第一色阻层及第二色层阻曝光显影后叠加形成凸起,或者第一色阻层、第二色阻层及第三色阻层三种色阻曝光显影后叠加形成凸起。
其中,所述彩膜基板的制造方法还包括在所述基体上位于色阻单元层上方形成数个支撑物的步骤。
本发明还提供一种液晶面板,其包括阵列基板及与阵列基板相对设置的彩膜基板,所述彩膜基板包括基体、黑矩阵层、色阻单元层、公共电极层,所述黑矩阵层及色阻单元层形成于所述基体的同一表面上,所述公共电极层覆盖所述色阻单元层,所述彩膜基板上位于所述基体周缘还设有胶框,所述胶框内嵌设有凸起,所述凸起为色阻单元层被图案化时形成;所述阵列基板与所述彩膜基板固定并将所述胶框夹持形成以空腔,用于收容液晶。
本发明的彩膜基板在形成色阻单元层同时,在胶框区域通过色阻堆积形成凸起,然后再形成胶框时嵌入胶框内,与胶框共同支撑彩膜基板,不仅增强胶框的支撑强度,而且通过色阻单元层成型时形成凸起,节省了加工程序及成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明的彩膜基板的截面示意图。
图2是图1所示的彩膜基板的制造方法流程图。
图3是本发明的液晶面板截面示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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