[发明专利]含能材料的结构及其制备方法

权利要求书

1.一种用于制备含能材料结构的方法，所述方法包括以下步骤：

在基材上形成金属氧化物层，其中，所述金属氧化物层为Co₃O₄；

用燃料材料层覆盖所述金属氧化物层以便形成金属氧化物/燃料层，其中，所述燃料材料层为铝；以及

用疏水材料层包封所述金属氧化物/燃料层以便形成金属氧化物/燃料/疏水材料层，其中，所述疏水材料层为聚四氟乙烯；

其中，所述含能材料结构为防水的。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述金属氧化物层包括微米级或纳米级结构。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于所述微米级或纳米级结构为细长的形状。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于所述微米级或纳米级结构为阵列的形式。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于形成金属氧化物层的步骤是通过物理气相沉积法、水热合成法、化学沉淀法、至少一种前驱体的固态热转化和电化学方法中的至少一种来执行的。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于形成金属氧化物层的步骤进一步包括以下步骤：沉积至少一种前驱体材料以及使得所述前驱体材料生长以便形成所述金属氧化物层。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于所述至少一种前驱体材料包括一层粘附层和一层金属层。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于所述粘附层包括氧化铜，钛，钽，铬或其混合物。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于所述金属层包括铜，铁，钴，镍或其混合物。

10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于所述粘附层是通过溅射、电子束蒸发和热蒸发中的至少一种来沉积的。

11.根据权利要求7所述的方法，其特征在于所述金属层是通过溅射、电子束蒸发、热蒸发和电镀中的至少一种来沉积的。

12.根据权利要求6所述的方法，其特征在于所述生长步骤包括使得前驱体材料在较高的温度下氧化。

13.根据权利要求1所述的方法，其特征在于用所述燃料材料层覆盖所述金属氧化物层的步骤是通过热蒸发和溅射中的至少一种来执行的。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于所述热蒸发是在真空下进行的。

15.根据权利要求13所述的方法，其特征在于所述溅射是在惰性气体流中进行的。

16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于所述惰性气体包括氩气。

17.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述金属氧化物/燃料层和所述金属氧化物/燃料/疏水材料层包括微米级或纳米级结构。

18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于所述微米级或纳米级结构是细长形状的。

19.根据权利要求17所述的方法，其特征在于所述微米级或纳米级结构为阵列的形式。

20.根据权利要求1所述的方法，其特征在于包封所述金属氧化物/燃料层的步骤是通过化学气相沉积法、物理气相沉积法、旋涂、静电纺丝、电喷雾、气溶胶沉积和基于溶液的方法中的至少一种来执行的。