[发明专利]触控面板有效

专利信息
申请号: 201510037170.1 申请日: 2015-01-26
公开(公告)号: CN104808840B 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 铃木寿弘;新井真;石桥哲;须田具和 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G06F3/044
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 杨晶;王琦
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 面板
【权利要求书】:

1.一种触控面板,其配置于显示面板上,且采用通过触摸操作面来操作的电容方式,其特征在于,所述触控面板具有:

透明基板;

在所述透明基板的所述操作面的背面侧沿X方向形成的多个X电极;以及

沿与所述X方向正交的Y方向形成的多个Y电极,

所述多个X电极和所述多个Y电极具有:

形成于所述背面侧的同一面的多个透明电极;以及

在所述X电极和所述Y电极经由绝缘部相互交叉的交叉部,立体连接相邻的所述X电极的透明电极或相邻的所述Y电极的透明电极中的任一方的跳线,

所述跳线具有与所述透明电极连接的第一层和层叠于该第一层的第二层,

所述第一层包括第一金属氧化膜,所述第二层包括第二金属氧化膜,

所述第一层的折射率低于所述第二层的折射率。

2.根据权利要求1所述的触控面板,其中,

所述第一层中的含氧率高于所述第二层的含氧率。

3.根据权利要求1或2所述的触控面板,其中,

所述第一层中的比电阻高于所述第二层的比电阻。

4.根据权利要求1或2所述的触控面板,其中,

所述第一层和所述第二层为相同金属的氧化物。

5.根据权利要求4所述的触控面板,其中,

所述第一层和所述第二层为含有1~15atm%的铌的钼合金氧化物。

6.根据权利要求1或2所述的触控面板,其中,

在将所述第一金属氧化膜及第二金属氧化膜中的复折射率定义为m=n-ik时,

在构成所述第一层的所述第一金属氧化膜中,

2.0≤n1≤2.2

0.015≤k1≤0.1;

在构成所述第二层的所述第二金属氧化膜中,

2.5≤n2≤3.8

0.3≤k2≤3.0,

其中n为折射率,k为消光系数,i为虚数单位,n1为所述第一金属氧化膜中的折射率,k1为所述第一金属氧化膜中的消光系数,n2为所述第二金属氧化膜中的折射率,k2为所述第二金属氧化膜中的消光系数。

7.根据权利要求1或2所述的触控面板,其中,

所述跳线具有层叠于所述第二层的包括第三金属膜的第三层。

8.根据权利要求7所述的触控面板,其中,

所述第三层包括铝或铝合金。

9.根据权利要求7所述的触控面板,其中,

所述跳线具有层叠于所述第三层的包括第四金属膜的第四层。

10.根据权利要求9所述的触控面板,其中,

所述第四层包括钼或钼合金。

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