[发明专利]一种可释放负离子的高效防微尘窗纱及其制作方法有效
申请号: | 201510037064.3 | 申请日: | 2015-01-26 |
公开(公告)号: | CN104612572A | 公开(公告)日: | 2015-05-13 |
发明(设计)人: | 方存仁 | 申请(专利权)人: | 方存仁 |
主分类号: | E06B9/52 | 分类号: | E06B9/52;B32B33/00;B32B9/00;B32B38/00 |
代理公司: | 石家庄元汇专利代理事务所(特殊普通合伙) 13115 | 代理人: | 刘闻铎 |
地址: | 050000 河北省石家庄*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 释放 负离子 高效 微尘 窗纱 及其 制作方法 | ||
1.一种可释放负离子的高效防微尘窗纱,包括支撑层(1),其特征在于:所述的窗纱还包括负离子功能膜层(4),负离子功能膜层(4)设置在窗纱的表面支撑层(1)上,负离子功能膜层(4)是由负离子粉与有粘合功能的高分子材料喷涂所形成的可释放负离子的膜层。
2.根据权利要求1所述的一种可释放负离子的高效防微尘窗纱,其特征在于:所述的窗纱还包括一级过滤层(2),一级过滤层(2)的下端面与支撑层(1)的上端面固定连接,负离子功能膜层(4)设置在一级过滤层(2)上。
3.根据权利要求2所述的一种可释放负离子的高效防微尘窗纱,其特征在于:所述的窗纱还包括二级过滤层(3),二级过滤层(3)的下端面与一级过滤层(2)的上端面固定连接,负离子功能膜层(4)设置在二级过滤层(3)的上端面上,负离子功能膜层(4)的厚度为5~100μm,负离子粉是具备释放负离子功能的天然矿物质的纳米粉,负离子粉的粒径为10~300nm,有粘合功能的高分子材料为硅胶粘结剂、聚氨酯胶黏剂或丙烯酸胶黏剂中的任意一种,粒径为20~1000nm。
4.根据权利要求1所述的一种可释放负离子的高效防微尘窗纱,其特征在于:所述的支撑层(1)是由不锈钢、尼龙、玻璃纤维、聚乙烯、或聚酯材料中任意一种的细丝编制成的网状结构,细丝的直径为0.02~0.1mm,网状结构的孔径为10~100目。
5.根据权利要求2所述的一种可释放负离子的高效防微尘窗纱,其特征在于:所述的一级过滤层(2)是由热熔胶纤维在支撑层(1)表面形成的热熔胶网膜,一级过滤层(2)的厚度为5~20μm,一级过滤层(2)的孔径为10~50μm。
6.根据权利要求3所述的一种可释放负离子的高效防微尘窗纱,其特征在于:所述的二级过滤层(3)的厚度为5~20μm,是由高聚物聚丙烯PP材料制成的孔径为2~20μm的通透微孔膜,或者是由疏水性高分子薄膜聚四氟乙烯PTFE、或聚偏氟乙烯PVDF制成的孔径为0.01~5μm的微孔膜。
7.一种如权利要求1所述的可释放负离子的高效防微尘窗纱的制作方法,包括以下步骤:
A、制作支撑层:利用不锈钢、尼龙、玻璃纤维、聚乙烯、或聚酯材料的细丝编制成网状结构的支撑层(1)备用,
其特征在于:所述的方法还包括:
B、喷涂负离子功能膜层:利用自动往复喷涂机在窗纱的表面支撑层(1)上喷涂厚度为5~100μm的负离子功能膜层(4)。
8.根据权利要求7所述的一种可释放负离子的高效防微尘窗纱的制作方法,其特征在于:所述的方法还包括:
A1、制作一级过滤层:热熔胶选用热塑性聚氨酯弹性体橡胶TPU、聚醚砜树脂PES、聚酰胺PA、或乙烯-醋酸乙烯共聚物EVA中的任意一种,利用热熔胶纤维喷涂机将熔融状态的热熔胶纤维状高压喷出,在支撑层(1)上形成一级过滤层(2),其中,纤维的熔体温度为160~200℃,辅助空气温度为常温,空气压力为0.3~0.6MPa,接收距离为2~20cm,热熔胶的流量为50~500ml/min,此时的步骤B是在一级过滤层(2)上喷涂负离子功能膜层(4)。
9.根据权利要求8所述的一种可释放负离子的高效防微尘窗纱的制作方法,其特征在于:所述的方法还包括:
A2、制作二级过滤层:在一级过滤层(2)上制作二级过滤层(3);
A3、热压成型:利用热压机将支撑层(1)、一级过滤层(2)、二级过滤层(3)在160~200℃的环境中,利用0.1~1MPa的压力压制1~5min,热压固定在一起,此时的步骤B是在二级过滤层(3)上喷涂负离子功能膜层(4)。
10.根据权利要求9所述的一种可释放负离子的高效防微尘窗纱的制作方法,其特征在于:步骤A2是采用高聚物聚丙烯PP材料用熔喷工艺制成孔径为2~20μm的通透微孔膜,其中,高聚物聚丙烯PP的熔体温度为280~320℃,热空气温度为200~300℃,空气压力为0.6~1.0MPa,接收距离为15~25cm,高聚物聚丙烯PP的流量为200~1000ml/min;或者步骤A2是用疏水性高分子薄膜聚四氟乙烯PTFE或聚偏氟乙烯PVDF经加速器重离子束流辐照后再经化学蚀刻处理制备出孔径为0.01~5μm的微孔膜。
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