[发明专利]新晶体结构酞菁锌(ι-ZnPc)纳米线及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510034269.6 申请日: 2015-01-23
公开(公告)号: CN104557952A 公开(公告)日: 2015-04-29
发明(设计)人: 罗金龙;王海;吴琼;纪小林;邹涛隅;乔振芳;杨镒吉;王晓燕 申请(专利权)人: 昆明学院
主分类号: C07D487/22 分类号: C07D487/22;B82Y40/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 贾静环
地址: 昆明市经*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶体结构 酞菁锌 znpc 纳米 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种新晶体结构ι-酞菁锌(ι-ZnPc)纳米线及其制备方法。

背景技术

从酞菁的发现到现在已经有一百多年的历史了。早期,酞菁主要作为有机染料。如今,已知合成的酞菁类化合物超过5000种,其用途已经扩展到如光伏、二极管、光疗等领域。在众多的酞菁当中,酞菁锌(ZnPc)由于其出色的光电性质,已经受到人们广泛的关注。同时,酞菁锌还展示了显著地光敏性、催化活性、光导性、光稳定性、热稳定性和化学惰性。这些性质使得其在许多不同的材料科学领域得以应用,尤其在纳米技术领域,例如有机发光二极管(OLED)、太阳能电池、光电化学电池、光敏剂、非线性光学材料、液晶、Langmuir–Blodgett膜、光学数据存储、气敏原件和光疗。特别是近年来,由于酞菁锌对可见光具有宽区域的吸收和具有较强的激子传输能力,使得其在光伏应用中成为非常有潜力的有机半导体材料。同时,因其出色的光动力和光热力性,酞菁锌在临床癌症治疗方面起着非常重要的作用。

一维酞菁纳米材料制备方法主要有有机气相沉积法、分子束外延法、氧化铝模板法、电化学沉积法和溶剂热法等。目前,酞菁锌晶体通常采用物理气相沉积法、溶剂热法、邻苯二甲腈和锌的氯化物反应法和分子束外延法进行制备。这些制备方法可以得到形貌上主要表现为纤维状、螺旋状、针状、棒状、线状,晶型为α、β的酞菁锌晶体。

但是,这些晶型的酞菁锌面临溶剂溶解性低,载流子迁移率低等问题,这使得酞菁锌的应用受到制约。为了解决这些问题,通过有机气相沉积法调控和大量生长制备纳米量级、物理和化学性质(如水溶性,水分散性和载流子迁移率等)得到提升和改善的新型酞菁锌晶体,将能更好地拓宽其在光疗、光电导材料等领域的应用。

发明内容

本发明涉及一种新晶体结构的酞菁锌纳米线及其制备方法。

本发明所提供的酞菁锌纳米线具有ι-ZnPc结构,具有不同于现有α、β酞菁锌晶体的晶体结构。新晶体结构的酞菁锌晶体可以更好地运用在癌症治疗、光电导材料等领域。

在本发明的一个实施方式中,本发明的ι-酞菁锌纳米线的X-射线衍射谱(测试条件:CuKα1,0.02°/step/1s)在下列的2θ(2θ±0.1°,此处的±0.1°表示特征峰位置的误差范围)处具有一个或多个特征峰:约6.8°、约8.3°、约9.8°、约15.5°和约25.9°;优选的,ι-酞菁锌纳米线的X-射线衍射谱在下列的2θ(2θ±0.1°)处具特征峰:约6.8°和约15.5°。

在本发明的另一个实施方式中,酞菁锌纳米线的X-射线衍射谱在下列的2θ处具有特征峰:6.84°、8.342°、9.78°、15.539°和25.855°,对应于上述2θ,半峰宽分别为0.525、0.423、0.469、0.446和0.307;峰高分别为1390、91、95、234和114;衍射强度分别为100%、6.5%、6.8%、16.8%和8.2%;所述X-射线衍射谱的测试条件为:CuKα1,0.02°/step/1s。

根据本发明的又一个实施方案,本发明的酞菁锌纳米线的傅氏转换红外线光谱(FTIR)具有下列的特征峰:570.83cm-1、636.40cm-1、721.25cm-1、752.11cm-1、771.39cm-1、887.10cm-1、1060.66cm-1、1087.66cm-1、1118.52cm-1、1164.80cm-1、1284.37cm-1、1330.65cm-1、1407.79cm-1、1484.93cm-1

该新型结构ι-酞菁锌的制备方法,其具体步骤如下:

a)放入酞菁锌原料至炉中的加热区域;

b)通入载气并始终保持恒定的流量,加热酞菁锌原料至450-490℃,使酞菁锌升华;

c)通过该载气,引导该升华的酞菁锌离开该加热区域至生长区域,所述生长区域的温度低于所述加热区域的温度;

d)在生长区域,得到ι-酞菁锌纳米线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明学院,未经昆明学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510034269.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top