[发明专利]一种二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料及制备方法有效

专利信息
申请号: 201510030906.2 申请日: 2015-01-21
公开(公告)号: CN104658763B 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 樊海明;余宝智;任兆玉 申请(专利权)人: 西北大学
主分类号: H01G11/24 分类号: H01G11/24;H01G11/46;H01G11/86
代理公司: 西安恒泰知识产权代理事务所61216 代理人: 李婷
地址: 710069 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 二氧化锰 树枝 纳米 阵列 电极 材料 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于新能源超级电容器领域,涉及一种电极材料,具体涉及一种二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料及制备方法。

背景技术

化石能源短缺与环境污染问题是当今最严峻的全球性问题,给人类的生存带来了极大压力。而电化学储能设备的出现减少了化石能源的使用,从而极大地缓解能源短缺等问题所带来的压力,超级电容器也称电化学电容器,它具有优良的冲充放电性能和大容量储能性能。因其存储能量大,质量轻,可多次充放电而成为一种新型的储能装置,近年来受到科学研究人员的广泛重视。随着环保型电动汽车研究的兴起和发展,超级电容器与各类动力电池配合使用组成复合电池,应用于电动汽车的电源启动系统,在车辆的起步、加速、制动过程中起到保护蓄电池和节能的作用,或者直接作为电动车的电源。然而,超级电容器仍面临一些问题:如何提高比容量,从而提高能量密度;如何增强循环稳定性;如何提高大电流充放电能力等等。解决上述问题的关键在于获得电化学性能极好的电极材料。

目前,超级电容器的电极材料主要有:(1)碳材料(2)导电聚合物材料(3)金属氧化物材料。金属氧化物因其高能量密度、价格低廉且自然储备丰富而成为一种十分有潜力的赝电化学储能材料。其中二氧化锰广泛存在于自然界中,并且具有价格低廉,对环境无污染,多种氧化形态、电位窗比较宽等特点,所以二氧化锰是一种极具发展潜力的超级电容器电极材料。但二氧化锰作为超级电容器电极材料仍存在一些不足,比如说导电性差,比表面积小,离子传输能力差等。而解决这些问题的的关键是制备出一种具有合理结构与形貌的二氧化锰电极材料。多级树枝结构就是一种比较有潜力的结构之一。他可以有效地防止材料内由团聚导致的比表面积减小从而引起的容量减小。但现有的多级树枝状结构多数是由纳米线或者纳米棒作为主干和支杆,而纳米线和纳米棒本身的比表面积要比同样大小的纳米管的比表面积小。但目前并没有多级树枝状纳米管结构的报道。同时,现有的多级树枝状结构其支杆的外延生长仅仅是依靠对应晶面的晶格间距与主干对应晶面的晶格间距差别小,所以稳定性较差,并且有无序性。共格生长,是外延生长中对材料的晶格结构要求较高的一种生长模式。它要求支杆材料的晶格结构与主干材料的晶格结构必须一致或差别极小。因此,共格生长所构建出的结构具有很好的稳定性,并且可以构建高有序的多级结构。但目前,由于技术问题,共格生长并未应用到树枝状结构的构建中来。

发明内容

针对现有技术存在的问题,本发明的目的在于,提供了新型二氧化锰树枝状纳米阵列作为超级电容器电极材料。该电极材料具有共格生长的特征,所以比表面积大,分散性好,导电性好,结构稳定,制备成本低,制备方法简单,并且可以得到好的超级电容器的性能。

为了实现上述技术任务,本发明采用如下技术方案予以实现:

一种二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料,所述的二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料由多个树枝状二氧化锰阵列单元组成,所述的每个树枝状二氧化锰阵列单元包括一个单晶二氧化锰方形纳米管主干,在单晶二氧化锰方形纳米管主干上生长有单晶二氧化锰方形纳米管枝干。

如上所述的二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料,所述的二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料由多个树枝状二氧化锰阵列单元组成,所述的每个树枝状二氧化锰阵列单元包括一个单晶二氧化锰方形纳米管主干,在单晶二氧化锰方形纳米管主干的四个侧棱上生长有四列单晶二氧化锰方形纳米管枝干,主干与枝干之间为共格生长关系;

所述的单晶二氧化锰方形纳米管枝干轴向与单晶二氧化锰方形纳米管主干轴向之间的夹角范围为57°~62°;

所述的单晶二氧化锰方形纳米管枝干轴向沿单晶二氧化锰方形纳米管主干轴向有序排列,且主干与枝干轴向之间的夹角在夹角范围57°~62°内呈正态分布,均值为59°。

一种制备如上所述的二氧化锰树枝状纳米阵列电极材料的方法,该方法以高锰酸钾和盐酸为初始原料制备,该方法采用两步水热法合成;

第一步水热法过程中采用单抛硅片作为基底来生长纳米阵列;

第二步水热法过程中采用生长有单晶二氧化锰方形纳米管主干的单抛硅片作为基底来二次生长纳米阵列;

在二次生长时将生长有单晶二氧化锰方形纳米管主干的单抛硅片放置位置为倾斜20°~60°斜靠水热釜壁,单抛硅片的抛光面向下放置;

在二次生长时原料的浓度低于一次生长时原料的浓度。

该方法具体包括以下步骤:

步骤一,第一步水热法:

在水热釜中依次加入单抛硅片、高锰酸钾和盐酸,加热至140℃,进行晶体的生长,生长时间为12h;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西北大学,未经西北大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510030906.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top