[发明专利]一种药物面膜及其制备方法在审
申请号: | 201510026434.3 | 申请日: | 2015-01-20 |
公开(公告)号: | CN104523533A | 公开(公告)日: | 2015-04-22 |
发明(设计)人: | 吴学谦 | 申请(专利权)人: | 吴学谦 |
主分类号: | A61K8/97 | 分类号: | A61K8/97;A61K8/96;A61K8/19;A61Q19/00;A61Q19/02;A61Q19/08 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 211700 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 药物 面膜 及其 制备 方法 | ||
技术领域:
本领域属于日用化妆品领域,特别涉及运用药石、药草、药土三类药材制备面膜的方法。
背景技术:
目前市场上的化妆品种类繁多,大多以化学品合成为主,含有铅、镉、汞、砷等有毒重金属,长期使用,对皮肤伤害性较大。市面上的一些药物面膜,要么因成分少而功能单一,要么因成分多,而制作不方便,成本较高。商家往往追求面膜的快速有效性,往往在皮肤表面大做文章,导致治标不治本的现象出现。这些因素制约着面膜而至化妆品业的发展,如何打破这一瓶颈,找到标本兼顾而又无后遗症的方法是关键。
本发明的药石、药草、药土三类药材四种原料正是起到标本兼顾祛毒保健的效果,其背景技术相关情况如下。
麦饭石,麦饭石对重金属离子铅、镉、汞、砷,有机质、病菌等有毒有害物质有较强的吸附作用。对铅、镉、汞、砷的吸附率可以达到96%以上。特别适合清除因日常使用的化学品合成面膜而聚集在面部的重金属。其富含锌、硒、镁矿物盐及可以促进胶原蛋白形成的偏硅酸盐,增强皮扶弹性,营养皮扶粘膜,调节过胖和过瘦,促进体形健美。另外还有抗疲劳的特殊功效。
水元石,水元石独特的天然循环磁场,可以使面部水份呈弱碱性、小分子团、负电位,并富含氧分。弱碱性改善面质,小分子团有效吸收水分,负电位抑制自由基,高含氧提高面部抗病毒入侵能力。另外水元石可以促使面部油脂的溶解,对油性皮肤效果更佳。
葛根,葛根异黄酮具有清除氧自由基及抗脂质过氧化的功效,延缓皮肤衰老,及皱纹丛生,与水元石形成双重功效。另外葛根异黄酮对人类皮肤黑色素的发生与形成具有抑制作用,防止黄褐斑、日晒斑等色素沉积。
海泡泥,主要成分海泡石粉,遇水后变得异常柔软,如海绵般,接触皮肤时有舒适感。不光无毒灭菌,还有保湿润滑的效果,其强大的吸附力和巨大的比表面积使面膜与皮肤充分接触,资源得到充分利用。涂抹完成还有拉皮祛皱作用。
发明内容:
本发明标本兼顾,由内到外对皮肤起到祛斑润肤美白除皱功效。
其药物面膜的制备步骤和操作指南如下:
1、原料:麦饭石20-30份、水元石10-15份、葛根粉45-55份、海泡泥10-15份按重量份比称取好原料。
2、麦饭石和水元石干燥磨成细粉。
3、将磨成粉的麦饭石和水元石与葛根粉、海泡石黏土一起加温水搅拌混合至泥状,均匀的涂抹于脸部,保持10-15分钟后,使面膜有效成分得到充分吸收发挥,再用清水清洗洁净面部。
本发明药物面膜其特征在于,结合了药石、药草、药土三类药材四种原料。利用麦饭石祛除由于在日常生活中所使用的化学品合成的面膜而至其他护肤品在面部残留的铅、镉、汞、砷,有机质、病菌等有毒有害物质,达到表面的洁净。水元石活化面部水分,提高肤质,溶解面部氧化油脂,平衡油脂。葛根异黄酮辅助水元石深层滋养面部,清除氧自由基及抗脂质过氧化,抑制黑色素产生,祛除色斑。再加以海泡泥的保湿润滑效果,另其强大的吸附力与巨大的比表面积又使面膜与面部充分接触,无死角,资源都得充分利用。
附图说明:
图1为本发明面膜的制备操作指南图
具体实施方式:
实施例1
1、原料:麦饭石30份、水元石10份、葛根粉45份、海泡泥15份按重量比称取好原料。
2、麦饭石和水元石干燥磨成细粉。
3、将磨成粉的麦饭石和水元石与葛根粉、海泡泥一起加温水搅拌混合至泥状,均匀的涂抹于脸部,10分钟后,当面膜有效成分得到充分吸收发挥,再用清水清洗洁净面部。
实施例2
1、原料:麦饭石20份、水元石15份、葛根粉55份、海泡泥10份按重量比称取好原料。
2、麦饭石和水元石干燥磨成细粉。
3、将磨成粉的麦饭石和水元石与葛根粉、海泡泥一起加温水搅拌混合至泥状,均匀的涂抹于脸部,10分钟后,当面膜有效成分得到充分吸收发挥,再用清水清洗洁净面部。
实施例3
1、原料:麦饭石25份、水元石12份、葛根粉50份、海泡泥13份按重量比称取好原料。
2、麦饭石和水元石干燥磨成细粉。
3、将磨成粉的麦饭石和水元石与葛根粉、海泡泥一起加温水搅拌混合至泥状,均匀的涂抹于脸部,15分钟后,当面膜有效成分得到充分吸收发挥,再用清水清洗洁净面部。
对于本领域技术人员而言,可以根据上述公开的技术方案以及构思,作出其他各种相应的改变以及变形,而所有的这些改变以及变形都应该落入本发明的权利要求的保护范围之内。
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