[发明专利]多测量头的水氧透气率测量系统有效
申请号: | 201510025295.2 | 申请日: | 2015-01-16 |
公开(公告)号: | CN104596906B | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 张建华;张志林;蒋雪茵 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | G01N15/08 | 分类号: | G01N15/08 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙)31205 | 代理人: | 陆聪明 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 透气 系统 | ||
1.一种多测量头的水氧透气率测量系统,其特征在于,包括一个公共腔(59),所述公共腔(59)是由上基板(51),下基板(52)和边桶(50)构成的一个密闭空间,工作时充以高纯惰性气体;在公共腔(59)的上基板(51)上固定有多个与上基板(51)中心等距的测量探头腔(19),在公共腔体(59)的下基板(52)的中心固定有一个共用的真空蒸发腔(39);在每一个测量探头腔下有一个与之对接的移动腔,所述移动腔内装有一个蒸镀有活泼金属膜的石英晶振片(1),所述石英晶振片(1)的上下电极经电线(2)穿过移动腔的移动腔体(3)和公共腔(59)的边桶(50)连接到振荡器(61)形成振荡信号,通过各自的电子开关(62)再转接到膜厚测量仪(63),所述膜厚测量仪(63)连接计算机(64);所述膜厚测量仪(63)测量待测样品片(17)膜厚随时间的变化,经计算机(64)进行数据处理后,得到该测量探头腔上的待测样品片(17)的水氧透过率;所述移动腔体(3)连接转柄(8),所述转柄(8)旋转带动移动腔体(3)旋转使移动腔在测量探头腔(19)和真空蒸发腔(39)之间转换,当移动腔完成一次测量后转到与真空蒸发腔(39)对接的位置时,通过真空蒸发腔(39)中的蒸发坩埚蒸发活泼金属到石英晶振片(1)上形成新的气敏层后,再转回到原来测量探头腔下方位置进行下一次的测量过程。
2.根据权利要求1所述的多测量头的水氧透气率测量系统,所述测量探头腔(19)是由测量探头腔体(10)、密封圈(16)、待测样品片(17)、中间带窗孔的测量腔体压盖(18)和带胶圈(15)的开关阀(14)组成;在所述测量腔体压盖上面套有一个腔外气氛腔(79),在测量探头腔体(10)的底部开有通孔连通到移动腔(9),在通孔上面装有带胶圈(15)的开关阀(14),在测量探头腔体(10)上还有抽气口(12)和进气口(11),所述抽气口连接阀门和真空泵,所述进气口连接阀门和高纯惰性气体系统,所述测量探头腔体的下平面与公共腔(59)的上基板(51)的下平面呈一平整的平面。
3.根据权利要求2所述的多测量头的水氧透气率测量系统,其特征在于,所述腔外气氛腔(79)是由气氛罩(70)与测量腔体压盖(18)和待测样品片(17)形成的空间,在气氛罩上有气氛进气口(71)和气氛出气口(72),气氛进气口通过阀门与气氛产生装置相连,气氛产生装置提供恒温恒湿空气、纯氧或纯水汽。
4.根据权利要求1所述的多测量头的水氧透气率测量系统,其特征在于,所述真空蒸发腔(39)是由真空蒸发腔体(30)、第二密封圈(36)、装有上蒸发坩埚(40)和加热炉丝引出电极(38)的下盖(37)和带第二胶圈(35)的第二开关阀(34)组成,在真空蒸发腔体(30)的上底部开有第二通孔(33),第二通孔(33)连通到转动过来的移动腔(9),在第二通孔(33)上面装有带第二胶圈(35)的第二开关阀(34),在真空蒸发腔体(30)上还有第二抽气口(32)和第二进气口(31),第二抽气口(32)与阀门和高真空系统相连,第二进气口(31)与阀门和高纯惰性气体系统相连,所述真空蒸发腔体(30)的上平面与公共腔(59)的下基板(52)的上平面呈一平整的平面。
5.根据权利要求1所述的多测量头的水氧透气率测量系统,其特征在于,所述移动腔(9)是由上下开口的桶状结构移动腔体(3)和上下第三密封圈(4)组成,或由下面封闭的筒状结构的移动腔体(6)和上部第三密封圈(4)组成,为了保证能使移动腔体与测量探头腔体以及真空蒸发腔体(30)的密封,在测量探头腔体以及真空蒸发腔体(30)的另一面安装有压块,当移动腔转动到位后再压紧压块以保证气密性。
6.根据权利要求1所述的多测量头的水氧透气率测量系统,其特征在于,所述公共腔体(59)在边桶(50)上有第三抽气口(53)、第三进气口(54),第三抽气口(53)通过阀门连到真空泵,第三进气口(54)通过阀门连到高纯惰性气体;转轴(8)安装在下基板(52)上。
7.根据权利要求1所述的多测量头的水氧透气率测量系统,其特征在于,所述真空蒸发腔(39)安装在公共腔(59)的上基板(51)的中心,所述真空蒸发腔体(30)的下平面与公共腔(59)的上基板(51)的上平面呈一平整的平面;并将上蒸发坩埚(40)换成下蒸发坩埚(41)。
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