[发明专利]一种高阻尼形状记忆合金的应用在审
申请号: | 201510023890.2 | 申请日: | 2015-01-16 |
公开(公告)号: | CN104630562A | 公开(公告)日: | 2015-05-20 |
发明(设计)人: | 王宇;廖晓奇;黄崇辉;杨森;宋晓平 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | C22C19/03 | 分类号: | C22C19/03;C22C1/02 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 710049 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阻尼 形状 记忆 合金 应用 | ||
1.一种高阻尼形状记忆合金用于制备阻尼器件的应用,所述高阻尼形状记忆合金的化学式为Ni55-xFexMn20Ga25,其中,0≤x≤2。
2.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,0<x≤2。
3.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,0.5<x≤2。
4.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,0<x≤2,所述阻尼器件为磁控阻尼器件。
5.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,所述高阻尼形状记忆合金的制备方法包括以下步骤:按照Ni55-xFexMn20Ga25(0≤x≤2)的化学计量比,将Ni、Fe、Mn和Ga单质放入电弧熔炼炉中,抽真空后充入氩气进行熔炼,在电流为90-150A条件下熔炼得到铸锭,再将铸锭反复熔炼后进行高温固溶处理并淬火至室温,得到磁控高阻尼形状记忆合金。
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