[发明专利]显示基板及其制备方法和显示装置有效
申请号: | 201510015203.2 | 申请日: | 2015-01-12 |
公开(公告)号: | CN104516148B | 公开(公告)日: | 2017-06-09 |
发明(设计)人: | 谷耀辉;何晓龙;舒适 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板,包括:衬底基板和黑色矩阵层,其特征在于,还包括:
位于所述黑色矩阵层背离所述衬底基板一侧、用于将射向所述黑色矩阵层的光线汇聚到所述黑色矩阵层上的透镜结构;
位于所述透镜结构背离所述黑色矩阵层一侧的隔垫物,所述透镜的凸起朝向所述隔垫物。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板为彩膜基板。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,位于所述黑色矩阵层背离所述衬底基板一侧的透镜结构为一体式透镜结构或分体式透镜结构。
4.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述透镜结构为平凸透镜,且形成所述透镜结构的材料的折射率大于每个透镜结构背离所述黑色矩阵层一侧的介质的折射率。
5.根据权利要求2~4任一项所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板的彩色滤光层位于所述透镜结构和所述黑色矩阵层之间。
6.根据权利要求2~4任一项所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板的彩色滤光层位于所述透镜结构背离所述衬底基板的一侧。
7.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成黑色矩阵层;
在所述黑色矩阵层背离所述衬底基板一侧,形成用于将射向所述黑色矩阵层的光线汇聚到所述黑色矩阵层上的透镜结构;
在所述透镜结构背离所述黑色矩阵层一侧形成隔垫物,所述透镜的凸起朝向所述隔垫物。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,在步骤:在衬底基板上形成黑色矩阵层和步骤:在所述黑色矩阵层背离所述衬底基板一侧,形成用于将射向所述黑色矩阵层的光线汇聚到所述黑色矩阵层上的透镜结构之间还包括:
形成至少覆盖所述黑色矩阵层的开口区域的彩色滤光层。
9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,还包括:在所述透镜结构背离所述衬底基板的一侧形成至少覆盖所述黑色矩阵层的开口区域的彩色滤光层。
10.根据权利要求8或9所述的制备方法,其特征在于,所述透镜结构为平凸透镜;
所述在所述黑色矩阵层背离所述衬底基板一侧,形成用于将射向所述黑色矩阵层的光线汇聚到所述黑色矩阵层上的透镜结构具体包括:
在所述黑色矩阵层背离所述衬底基板一侧形成一层光刻胶,对所述光刻胶进行曝光、显影、刻蚀以及灰化处理以形成所述透镜结构。
11.一种显示装置,包括:背光源,其特征在于,还包括:如权利要求1~6任一项所述的显示基板。
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