[发明专利]一种高耐热化学增幅型光刻胶树脂及其光刻胶组合物

权利要求书

1.一种高耐热化学增幅型负胶的成膜树脂及使用该树脂的光刻胶组合物，其特征在于该组合物同时含有一种马来酰亚胺改性的环氧间苯二酚-甲醛树脂、产酸剂、光吸收剂、酸致聚合单体及其它助剂等。

2.如权利1所述改光刻胶组合物所包含的产酸剂为2,4-双(三氯甲基)-6-呋喃-4-乙烯基-1,3,5三嗪。

3.如权利1所述改光刻胶组合物所包含的光吸收剂为为1,7-双(4-羟基苯基)-1,6-庚二烯-3,5-二酮或者1,7-双(4-乙酰基-3-甲氧基苯基)-1,6-庚二烯-3,5-二酮。

4.如权利1所述改光刻胶组合物所包含的酸致聚合单体为甲氧基化甲基三聚氰胺树脂，具体的商品名有氰特Cymel 303、Cymel325、Cymel370、Cyeml380以及日本三和化学的MW-30M、MX-750、MX-706、MX-035。

5.如权利1所述改光刻胶组合物所包含的产酸剂份数为1～5份。

6.如权利1所述改光刻胶组合物所包含的光吸收剂份数为2～5份。

7.如权利1所述改光刻胶组合物所包含的酸致聚合单体份数为4～8份。