[发明专利]一种电源电路、阵列基板及显示装置有效
申请号: | 201510010133.1 | 申请日: | 2015-01-08 |
公开(公告)号: | CN104505027B | 公开(公告)日: | 2017-01-25 |
发明(设计)人: | 尹静文;王俪蓉 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G09G3/3225 | 分类号: | G09G3/3225 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电源 电路 阵列 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及有机发光显示领域,特别是指一种电源电路、阵列基板及显示装置。
背景技术
目前,OLED(organic light emitting diode,简称有机发光二极管)显示器成为国内外非常热门的新兴平面显示器产品,这是因为OLED显示器具有自发光、广视角、短反应时间、高发光效率、广色域、低工作电压、面板薄、可制作大尺寸与可挠曲的面板及制程简单等特性,而且它还具有低成本的潜力。
在大尺寸显示应用中,由于背板电源线存在一定电阻,且所有像素的驱动电流都由VDD提供,因此在背板中靠近电源供电位置区域的电源电压相比较离供电位置较远区域的电源电压要高,这种现象被称为IR Drop(压降),现有技术中,如图1所示(图1中的电阻符号表示的是各段电源线的等效电阻),对于由各行VDD单独驱动的AMOLED(有源矩阵有机发光二极管)器件,在发光二极管D1发光时,若发光二极管D2和D3不发光或流向D2和D3的电流极小,则流向发光二极管D4的电流增加,由此,在相邻行或多行之间也会导致亮度差异,即产生mura(显示器亮度不均匀,造成各种痕迹)现象,产生的mura现象如图2所示(注意,每个区域可以是多行像素),中间行的区域2接近电源供电位置区域,区域4远离电源供电位置,中间行有暗区3(即有类似图1的发光二极管D2和D3的情况),而标为区域1的上下两行无暗区。则区域1每行像素全亮,即由电源供电位置较近处至离电源供电位置较远处,渐渐变暗;而对于中间行,区域3处为暗区,则显示现象为区域2比区域1稍亮,但区域4比区域1亮很多,从而在显示时会产生不同行的像素单元之间发光亮度不均匀的现象。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明提出一种电源电路、阵列基板及显示装置,可以改善由于不同行像素单元之间的电压降不同导致的mura现象。
第一方面,本发明提供一种电源电路,包括:
至少两条电源线,所述每条电源线用于向与所述电源线连接的一行像素单元提供电源电压,所述至少两条电源线包括第一电源线和第二电源线,所述第一电源线和第二电源线之间设置有与门,以使所述第一电源线和所述第二电源线在同时输出高电平电压时互相电连接。
优选地,所述与门包括第一晶体管和第二晶体管,所述第一晶体管的漏极连接所述第一电源线,所述第一晶体管的栅极连接第二电源线,所述第一晶体管的源极连接所述第二晶体管的漏极,所述第二晶体管的栅极连接所述第一电源线,所述第二晶体管的源极连接所述第二电源线。
优选地,在所述像素单元的发光阶段,所述电源线的电源电压可以在高电平和低电平之间切换。
优选地,所述第一电源线和第二电源线为相邻的电源线。
优选地,每两相邻所述的电源线之间均设置有与门。
优选地,所述与门与所述两条电源线的连接点位于所述两条电源线远离电源的端。
优选地,所述与门为多个,所述多个与门与所述两条电源线的连接点间隔地设置在所述两条电源线上。
第二方面,本发明提供一种阵列基板,包括:上述任一所述的电源电路。
第三方面,本发明一种显示装置,包括:上述所述的阵列基板。
本发明提供的一种电源电路、阵列基板及显示装置,通过在两条电源线中增加与门,以使两条电源线在同时输出高电平电压时互相电连接,因此,两条电源线之间连接点处的电压接近,降低不同行的像素单元之间的电压差异,从而改善由于不同行像素单元的电压降不同产生的mura现象,结构简单,成本低。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中电源电路的结构示意图;
图2为现有技术中mura现象的示意图;
图3为本发明实施例提供的电源电路的结构示意图;
图4为图3中的电源线的供电电压的时序图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清除、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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