[发明专利]带有仿蛾眼随机阵列纳米凹陷结构的晶圆透镜阵列模具及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种加工晶圆透镜阵列片的模具，具体涉及一种带有仿蛾眼随机阵列纳米凹陷结构的晶圆透镜阵列模具及其制备方法。

背景技术

晶圆光学透镜阵列片是指在一个平面晶圆基底上按照特定阵列排布形式加工出一定数量的光学微透镜，透镜材料可以是光学级聚合物材料，也可以是光学玻璃材料。

最近，主要的手机厂商都将晶圆光学摄像头(Wafer Level Camera, WLC)作为下一代低成本手机摄像头制造的最有前景的技术。晶圆光学摄像头是指，透镜组件在2寸-8寸光学晶圆上制造，之后将光学晶圆与CMOS图像传感器晶圆叠装在一起，最后将该堆叠的晶圆切成数千个微型摄像头模块。几乎所有大型的摄像头供应商都在考虑使用WLC解决方案。WLC的概念具有缩减制造和封装成本的潜力，还可以通过将手动工作步骤替换为全自动晶圆级工艺加工步骤而进一步提高质量。

WLC解决方案已被众多厂家应用，但是还存在若干技术难题，其中增透就是一个重要问题。晶圆透镜阵列加工是晶圆光学摄像模组光学镜片加工的主要工艺环节。晶圆透镜阵列主要通过基于带有透镜面型的模具的翻印或者压印等办法来加工。由于微型摄像模组中包含多个通光透镜面，为了保证整个成像系统的光学透射率，每个透镜面的反射率必须严格控制在1%以下。因此，晶圆片透镜阵列在翻印加工出来之后必须镀增透膜来提高光学透射率。由于8寸阵列透镜片厚度薄，面积较大，在镀增透膜过程中容易出现翘曲变形等情况。一旦发生翘曲，晶圆阵列透镜片在后续的堆叠对准工艺流程中将达不到对准精度，导致废品发生。另外，传统介质增透膜由于和透镜材料热膨胀性能不同，在后续回流焊过程中也存在困难，另外大视场大光谱范围的高透射比增透膜也比较复杂。

仿蛾眼纳米结构已被理论和实践证明可以实现在宽光谱段内的光学增透效果。仿蛾眼纳米线结构，利用其极大的深宽比将光限制在纳米线之间，达到减反目的，是目前减反性能最好的纳米结构。现有加工蛾眼纳米结构的方法主要是，利用二次全息曝光和干法刻蚀方法在平面基底上形成仿蛾眼二维纳米结构，之后利用此平面基底模具在热固化或者紫外光固化材料上翻印出平面基底上的增透纳米结构。这种方法基本只能在平面基底材料上加工出仿蛾眼纳米结构。平面基底模具也可以翻印到PDMS（聚甲基二氧硅烷）等柔性材料上，形成柔性基底模具，可以用来形成辊筒状模具，在薄膜基底上加工二维纳米结构。

但是，以上仿蛾眼纳米增透结构加工方法并不能在类似透镜表面的曲面面型上加工出满足要求的二维仿蛾眼纳米结构。因为，曲面基底上很难利用全息曝光形成均匀的二维纳米结构图案。尤其是在晶圆透镜阵列表面上更难加工出均匀的二维纳米结构图案，因为一个阵列透镜片上存在众多透镜曲面，曝光方法很难形成均匀的纳米图形。有文献报道了应用表面直接等离子处理的方法在透镜阵列表面制造出二维纳米结构，但是得到的纳米结构的几何特征不规则，不能满足工业应用实现高透射率的要求。有文献报道利用铝材料的阳极氧化反应方法制造带有二维纳米结构的金属模具方法，但也只涵盖了平面模具。本发明人此前申请了基于铝材料的阳极氧化反应的晶圆透镜阵列模具专利（申请号：201410630217.0），利用此模具可以直接复制加工出带有仿蛾眼阵列纳米结构的晶圆透镜阵列片，不需要镀增透膜即可达到高透射率。在部分应用场合中，铝材料作为模具基材存在机械性能不够和膨胀系数匹配的问题。

发明内容

本发明公开了一种基于硅或者锗材料的带有仿蛾眼随机阵列纳米凹陷结构的晶圆透镜阵列模具及其制备方法，可以直接复制加工出带有仿蛾眼随机阵列纳米结构的晶圆透镜阵列片，如图1所示，它不需要镀增透膜即可达到可见光波段的宽光谱增透，有效降低反射，不仅极大简化了晶圆透镜阵列片加工的工艺流程，而且避免了回流焊温度引起的介质增透膜破裂脱落等问题，具有明显的实际经济效益。

本发明技术方案实施如下：