[发明专利]激光照射装置

说明书

技术领域

本发明涉及激光照射装置。

背景技术

激光退火装置是这样的装置：将从准分子激光器等激光系统输出的具有紫外线区域的波长的脉冲激光照射至在玻璃基板上成膜的无定形(非结晶)硅膜上，使其改质为多晶硅膜。通过使无定形硅膜改质为多晶硅膜，由此能够制作出TFT(薄膜晶体管)。该TFT在比较大的液晶显示器中被使用。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-139991号公报

专利文献2：日本特开2012-243818号公报

专利文献3：日本特开2011-233597号公报

专利文献4：日本特开2005-099427号公报

专利文献5:国际公开第2011/132385号

发明内容

本发明的1个观点的激光照射装置可以具备：激光装置，其输出脉冲激光；光束扫描光学系统，其将从激光装置输出的脉冲激光分配至多个光路；多个光束均匀器，它们分别配置于多个光路，分别使分配至多个光路的脉冲激光的光强分布均匀化；以及控制部，其将光束扫描光学系统控制成，将从激光装置输出的脉冲激光按照每个脉冲分配至多个光路。

本发明的1个观点的激光照射方法可以是：生成脉冲激光，使台在第1方向上移动，改变脉冲激光的光路，使得所述脉冲激光依次入射至沿第2方向排列的多个光束均匀器。

附图说明

将本发明的几个实施方式仅作为例子，并参照附图在下面进行说明。

图1A概要性地示出了比较例的激光照射装置的结构。

图1B概要性地示出了比较例的激光照射装置的结构。

图1C是被图1A和图1B所示的激光照射装置照射的被加工物S的俯视图。

图2A概要性地示出了本发明的第1实施方式的激光照射装置的结构。

图2B概要性地示出了本发明的第1实施方式的激光照射装置的结构。

图2C是被图2A和图2B所示的激光照射装置照射的被加工物S的俯视图。

图2D是图2A和图2B所示的激光照射装置中的激光发光触发信号和脉冲激光的时序图。

图3A概要性地示出了本发明的第2实施方式的激光照射装置的结构。

图3B概要性地示出了本发明的第2实施方式的激光照射装置的结构。

图3C是被图3A和图3B所示的激光照射装置照射的被加工物S、和该激光照射装置所具有的掩模6的俯视图。

图4示出了第2实施方式中的掩模和照射区域的第1变形。

图5示出了第2实施方式中的掩模和照射区域的第2变形。

图6A概要性地示出了本发明的第3实施方式的激光照射装置的结构。

图6B概要性地示出了本发明的第3实施方式的激光照射装置的结构。

图7A概要性地示出了本发明的第4实施方式的激光照射装置的结构。

图7B概要性地示出了本发明的第4实施方式的激光照射装置的结构。

图7C是被图7A和图7B所示的激光照射装置照射的被加工物S、和该激光照射装置所具有的掩模6的俯视图。

图8示出了第4实施方式的掩模和照射区域的变形。

图9概要性地示出了本发明的第5实施方式的激光照射装置的结构。

图10概要性地示出了在上述的各实施方式中使用的紫外线激光装置2的结构。

图11概要性地示出了在上述的各实施方式中使用的复眼透镜501的结构。

图12是示出控制部的概要结构的框图。

具体实施方式

＜内容＞

1.概要

2.比较例的激光照射装置

2.1结构

2.2动作

2.3课题

3.具有光束扫描光学系统的激光照射装置(第1实施方式)

3.1结构

3.2动作

3.3作用

3.4其它

4.具有微透镜阵列的激光照射装置(第2实施方式)

4.1结构

4.2动作

4.3作用

4.4其它

5.使光束均匀器和转印光学系统一体化的激光照射装置(第3实施方式)

6.使掩模的开口为长方形的激光照射装置(第4实施方式)

6.1结构

6.2作用

6.3其它

7.使用了检流计反射镜(ガルバノミラー)的激光照射装置(第5实施方式)

8.其它