[发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法和有机电致发光元件的制造方法

权利要求书

1.一种在基板上形成膜的蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸镀装置包括第一膜厚监视部和包含蒸镀源的蒸镀单元，并且，一边基于所述第一膜厚监视部的测定结果，控制从所述蒸镀源放出气化后的材料的部分与所述基板的被蒸镀的表面之间的距离，一边进行蒸镀，

所述蒸镀源包含加热装置，

所述蒸镀装置包括第二膜厚监视部，并且，

一边基于所述第一膜厚监视部的测定结果控制所述距离和所述加热装置的输出，并且基于所述第二膜厚监视部的测定结果控制所述距离的控制中的比例系数，一边进行蒸镀。

2.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：

通过PID控制来控制所述输出。

3.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：

包括输送机构，其在与所述基板的法线方向正交的方向上使所述基板和所述蒸镀源的至少一方相对于另一方相对移动。

4.如权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸镀单元包含所述蒸镀源和掩模，

所述输送机构使所述基板和所述蒸镀单元的至少一方相对于另一方相对移动。

5.如权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸镀装置包括掩模，

所述输送机构使所述蒸镀源和贴合了所述掩模的所述基板的至少一方相对于另一方相对移动。

6.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸镀装置包括：掩模；和具有使贴合了所述掩模的所述基板旋转的旋转机构的基板保持件。

7.如权利要求1～6中任一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

包括蒸镀源移动机构，其使所述蒸镀源移动而使放出所述气化后的材料的所述部分的高度变化。

8.如权利要求1～6中任一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

通过比例控制或PID控制来控制所述距离。

9.如权利要求1～6中任一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸镀源包括设置有开口部的坩埚，

放出所述气化后的材料的所述部分是所述开口部。

10.一种包含在基板上形成膜的蒸镀工序的蒸镀方法，其特征在于：

所述蒸镀工序使用权利要求1～9中任一项所述的蒸镀装置进行。

11.一种有机电致发光元件的制造方法，其特征在于：

包含使用权利要求1～9中任一项所述的蒸镀装置来形成膜的蒸镀工序。