[发明专利]用于测定污染硅产品的金属杂质的浓度的方法有效
| 申请号： | 201480072654.3 | 申请日： | 2014-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN105899458A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 道格拉斯·H·克雷斯佐夫斯基;卡尔·W·普尔三世;戴尔·弗兰克林·沃克曼 | 申请（专利权）人： | 赫姆洛克半导体公司 |
| 主分类号： | C01B33/021 | 分类号： | C01B33/021 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 胡秋玲;郑霞 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 测定 污染 产品 金属 杂质 浓度 方法 | ||
【说明书】：
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