[发明专利]包含用于TFT测试的虚设显示元件的显示设备

说明书

相关申请案的交叉参考

本专利申请案主张2014年12月30日申请的题为“包含用于薄膜晶体管测试的虚设显示元件的显示设备(Display Apparatus Including Dummy Display Element For TFT Testing)”的第14/586,644号美国专利申请案的优先权，所述美国专利申请案为2014年6月4日申请的题为“包含用于薄膜晶体管测试的虚设显示元件的显示设备(Display Apparatus Including Dummy Display Element For TFT Testing)”的第14/295,493号美国非临时专利申请案的部分接续申请案，所述美国非临时专利申请案主张2014年1月3申请的题为“包含用于薄膜晶体管测试的虚设显示元件的显示设备(Display Apparatus Including Dummy Display Element For TFT Testing)”的第61/923,323号美国临时专利申请案的优先权。前述申请案中的每一者让与给本发明的同一受让人，且以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及成像显示器领域，且尤其涉及用于测试像素电路组件的系统及方法。

背景技术

机电系统(Electromechanical system，EMS)装置包含具有电及机械元件(例如，致动器、光学组件(例如，镜面、快门及/或光学膜层)及电子装置)的装置。EMS装置可以多种尺度来制造，包含(但不限于)微尺度及纳米尺度。举例来说，微机电系统(microelectromechanical systems，MEMS)装置可包含具有范围为约一微米到数百微米或更大的大小的结构。纳米机电系统(NEMS)装置可包含具有小于一微米的大小(例如，包含小于数百纳米的大小)的结构。可使用沉积、蚀刻、光刻及/或蚀刻掉所沉积材料层的部分或添加层以形成电及机电装置的其它微机械加工过程来创造机电元件。

已提议基于EMS的显示设备，所述显示设备包含选择性地将光阻挡组件移动穿过贯穿光阻挡层界定的孔隙进入及离开光学路径来调制光的显示元件。进行此操作使得来自背光的光选择性地通过或反射来自环境或前光的光以形成图像。

发明内容

本发明的系统、方法及装置各自具有若干创新方面，其中无单一者单独负责本文中所揭示的合乎需要的属性。

本发明中所描述的标的物的创新方面可在一种设备中实施。所述设备包含：图像形成显示元件阵列，其跨越显示器的观看区布置；虚设显示元件，其定位于所述观看区外部；驱动总线，其能够将驱动及控制信号输出到所述图像形成显示元件及所述虚设显示元件；测试总线，其能够将测试信号输出到虚设显示元件像素电路；及一组开关。所述图像形成显示元件中的每一者具有能够控制其相应图像形成显示元件的状态的相关联的图像形成显示元件像素电路。所述虚设显示元件具有大体上类似于所述图像形成显示元件像素电路中的每一者的虚设显示元件像素电路。所述虚设显示元件像素电路能够控制所述虚设显示元件的状态且能够允许进行对包含于所述虚设显示元件像素电路中的多个薄膜晶体管(TFT)的测试。所述组开关能够在第一切换配置中将所述虚设显示元件像素电路内的互连件连接于所述驱动总线中的互连件之间以将所述虚设显示元件像素电路暴露于电信号，所述电信号大体上类似于所述图像形成显示元件像素电路所经历的那些电信号。所述组开关也能够在第二切换配置中将所述虚设显示元件像素电路内的互连件连接到所述测试总线内的互连件以测量所述虚设显示元件像素电路中的所述多个TFT中的第一TFT的一或多个操作参数。在第三切换配置中，所述组开关能够将所述虚设显示元件像素电路内的互连件连接到所述测试总线内的互连件以测量所述虚设显示元件像素电路中的所述多个TFT中的第二TFT的一或多个操作参数。

在一些实施方案中，所述组开关能够在多个额外配置中将所述虚设显示元件像素电路互连件耦合到所述测试总线内的互连件以用于测试所述虚设显示元件像素电路中的所述多个TFT的剩余部分中的每一者。在一些实施方案中，所述开关能够接通受测试TFT的栅极端子与所述测试总线之间的所述虚设显示元件像素电路中的所有TFT。在一些实施方案中，所述开关进一步能够接通所述虚设显示元件像素电路中的TFT，所述TFT足以在所述受测试TFT的所述端子与所述测试总线的相应互连件之间形成电路径，且能够将所述受测试TFT的所述端子与所述驱动总线的互连件电隔离。