[发明专利]基于四唑的腐蚀抑制剂

权利要求书

1.一种抑制由于与次氯酸盐溶液接触而需要腐蚀抑制的表面处腐蚀的方法，所述方法包括使所述表面与包含以下的组合物相接触：

四唑；

溶剂；

示踪剂；

阻垢剂；

分散剂；

酸；和

碱；

其中所述四唑选自：

1,6-二(1H-四唑-5-基)己烷（“HDTZ”）；

1,7-二(1H-四唑-5-基)庚烷（“HeDTZ”）；和

1,8-二(1H-四唑-5-基)辛烷（“ODTZ”），

其中，所述组合物的pH为6至12。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述溶剂为水；所述示踪剂为荧光示踪剂；所述阻垢剂为膦基琥珀酸酯低聚物；所述分散剂为高应力聚合物分散剂；所述酸为磷酸；并且所述碱为氢氧化钾。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中将四唑以0.1 ppm至20 ppm的量添加到水性体系中。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述表面包括低碳钢、镀锌钢、铜、铝、铜合金或其任意组合。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述表面包括黄铜、海军黄铜或其任意组合。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中冷却水系统包括所述表面。