[发明专利]防反射光学部件有效

专利信息
申请号: 201480065363.1 申请日: 2014-12-01
公开(公告)号: CN105793740B 公开(公告)日: 2017-12-22
发明(设计)人: 安田英纪;松野亮;谷武晴 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B1/113 分类号: G02B1/113
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 葛凡
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 反射 光学 部件
【权利要求书】:

1.一种在规定介质中使用的防反射光学部件,其防止规定波长的入射光的反射,其特征在于,

具有依次层叠如下而成的层叠结构:

具有大于所述规定介质的第1折射率的透明基材;

含有多个金属微粒的含金属微粒层;及

具有大于所述规定介质的第2折射率的电介质层,

所述多个金属微粒的总数的60%以上是直径相对于厚度之比为3以上的扁平金属粒子,

所述扁平金属粒子的主平面在相对于所述含金属微粒层的表面为0°~30°的范围内面取向,

在所述含金属微粒层中,所述多个金属微粒以未形成导电路的状态配置,

所述电介质层的厚度为所述入射光从该电介质层的表面侧向所述层叠结构入射时的该电介质层的表面上的反射光和该电介质层与所述含金属微粒层的界面上的反射光发生干涉而被抵消的厚度。

2.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

所述规定波长为短于所述扁平金属粒子的等离子共振波长的短波。

3.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

所述电介质层的厚度为400nm以下。

4.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

所述电介质层的厚度为将所述规定波长设为λ时光路长度λ/4以下的厚度。

5.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

所述规定波长的入射光为可见光。

6.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

所述扁平金属粒子的直径为300nm以下。

7.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

所述金属微粒由银构成。

8.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

所述第1折射率小于1.8。

9.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

在所述含金属微粒层中,所述多个金属微粒中的50%以上相互孤立地配置。

10.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

在所述透明基材与所述含金属微粒层之间具备具有大于所述第1折射率的第3折射率的高折射率层。

11.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

所述含金属微粒层中的所述多个金属微粒的俯视观察时的面积率为5%以上且70%以下。

12.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

所述入射光的透射率为80%以上。

13.根据权利要求1所述的防反射光学部件,其中,

所述入射光的反射率为0.5%以下的波长带宽为100nm以上。

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