[发明专利]绝缘栅双极晶体管有效
申请号: | 201480065131.6 | 申请日: | 2014-10-30 |
公开(公告)号: | CN105745758B | 公开(公告)日: | 2019-05-10 |
发明(设计)人: | C.科瓦斯塞 | 申请(专利权)人: | ABB瑞士股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张金金;刘春元 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 绝缘 双极晶体管 | ||
1.一种绝缘栅双极晶体管(1),其在发射极侧(12)上的发射极电极(10)和与所述发射极侧(12)相对的集电极侧(16)上的集电极的电极(14)之间具有下列层,包括:
-第一传导类型的低掺杂漂移层(2);
-与第一传导类型不同的第二传导类型的集电极层(5),其设置在所述漂移层(2)与所述集电极的电极(14)之间并且与所述集电极的电极(14)电接触;
-第二传导类型的基极层(3),该基极层(3)设置在所述漂移层(2)与所述发射极电极(10)之间,该基极层(3)与所述发射极电极(10)电接触;
-第一传导类型的源区(4),其朝着所述发射极侧(12)设置在所述基极层(3)上并且与所述发射极电极(10)电接触,该源区(4)具有比所述漂移层(2)更高的掺杂浓度;
-第一栅单元(6),其包括至少两个第一沟槽栅电极(61)和至少两个平面栅电极(62),其中每个第一沟槽栅电极(61)具有第一导电层(610)和第一绝缘层(612),其中每个第一导电层(610)通过第一绝缘层(612)而与第一或第二传导类型的任何层分离,并且其中所述源区(4)邻接至少一个第一沟槽栅电极(61),
其中每个平面栅电极(62)具有第二导电层(620)和第二绝缘层(622),其中每个第二导电层(620)通过第二绝缘层(622)而与第一或第二传导类型的任何层分离,
-第二栅单元(7),其包括至少一个第二沟槽栅电极(71),其中所述至少一个第二沟槽栅电极(71)包括第三导电层(710)和第三绝缘层(712),该至少一个第二沟槽栅电极(71)通过所述第三绝缘层(712)而与第一或第二传导类型的任何层分离,其中所述至少一个第三导电层(71)电连接到所述发射极电极(10),
其中每个第二导电层(620)与第一导电层(610)接触使得所述第一和第二导电层(610,620)形成自身封闭的第一形状,所述第一栅单元(6)通过所述第一形状将所述第二栅单元(7)包封到所述第二栅单元的横侧,该横侧设置成垂直于所述发射极侧(12)和所述集电极侧(16),
-至少两个第三沟槽栅电极(8),其中的每个具有第四导电层(80)和第四绝缘层(82),其中所述第四导电层(80)通过所述第四绝缘层(82)而与第一或第二传导类型的任何层分离,其中第三沟槽栅电极(8)中的每个设置在所述至少两个平面栅电极(62)中的一个与所述第二栅单元(7)之间使得至少两个第一和第三沟槽栅电极(61,8)电连接并且形成自身封闭的第二形状,所述第二栅单元(7)被该第二形状包封,
-第二传导类型的至少两个条(35),其中的每个设置在所述平面栅电极(62)下面使得每个条(35)将平面栅电极(62)与至少在与第三沟槽栅电极(8)相对的侧上的第一或第二传导类型的任何其他层分离,其中所述至少两个条(35)延伸到所述发射极电极(10)并且与所述发射极电极(10)电接触,
其中所述至少两个条(35)具有比所述基极层(3)更高的最大掺杂浓度或自所述发射极侧(12)更大的深度中的至少一个,
-其中每个第三沟槽栅电极(8)将条(35)和平面栅电极(62)与所述第二栅单元(7)分离,其中所述基极层(3)将所述第二栅单元(7)在与所述发射极侧(12)平行的平面中与所述包封第二形状分离。
2.如权利要求1所述的绝缘栅双极晶体管(1),其特征在于所述至少两个条(35)中的至少一个与这样的第三沟槽栅电极(8)分离,所述第三沟槽栅电极(8)在所述条(35)与所述第二栅单元(7)之间以一定距离设置,所述距离最大对应于所述第三沟槽栅电极(8)自所述发射极侧(12)的深度。
3.如权利要求1所述的绝缘栅双极晶体管(1),其特征在于具有比所述漂移层(2)更高掺杂浓度的第一导电类型的增强层(24)设置在所述基极层(3)与所述漂移层(2)之间,其中所述增强层(24)将所述基极层(3)与所述漂移层(2)分离。
4.如权利要求1至3中任一项所述的绝缘栅双极晶体管(1),其特征在于所述绝缘栅双极晶体管(1)包括第一导电类型的第一区(26),其在所述集电极侧(16)上设置在所述集电极层(5)横向,该第一区(26)具有比所述漂移层(2)更高的掺杂浓度。
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