[发明专利]包含用含有银基功能层和厚TiOx下阻挡层的堆叠体涂覆的基材的窗玻璃

说明书

本发明涉及窗玻璃，其包含涂覆有包含至少一个银基金属功能层、至少两个抗反射涂层的薄层堆叠体的透明基材，每个抗反射涂层包含至少一个电介质层，使得每个金属功能层被设置在两个抗反射涂层之间。该堆叠体包含至少一个含有可以产生孔穴类型缺陷的电介质层的抗反射涂层，和至少一个基于氧化钛的阻挡层，该阻挡层具有高于1nm的厚度，该阻挡层位于该包含可以产生孔穴类型缺陷的电介质层的抗反射涂层和银基金属功能层之间，直接地与该银基金属功能层接触。

本发明涉及包含用薄层堆叠体涂覆的透明基材的窗玻璃，该薄层堆叠体包含至少一个银基金属功能层。

银基金属功能层(或者银层)具有有利的导电性质和红外线(IR)辐射的反射性质，由此它们用于目的在于减少进入的太阳能量的“日光控制”窗玻璃中和/或在目的在于减少朝向建筑物或者交通工具外面消散的能量的量的“低辐射”窗玻璃中。

这些银层被沉积在通常包含数个允许调节该堆叠体的光学性质的电介质层的抗反射涂层之间。而且，这些电介质层允许保护银层不受化学或者机械侵蚀。

窗玻璃的光学和电性质直接取决于银层的质量，如它们的结晶态，它们的均匀性和它们的环境，如在银层上面和在下面的界面的性质和表面粗糙度。

为了改善银基金属功能层的质量,已知使用阻挡层，其作用是保护这些层不受可能的与抗反射涂层的沉积相关的或者与热处理相关的劣化。已经提出了许多种特别地在所述阻挡层的性质、数目和位置方面的改变的可能性。

例如，可以使用阻挡层或者由数个阻挡层组成的阻挡涂层。这些阻挡层或者涂层可以仅仅位于该功能层的上方，仅仅位于该功能层的下方或者同时在该功能层上方和下方。

阻挡层的性质和厚度的选择与构成该功能层的材料，构成该与功能层接触的抗反射涂层的材料、可能的热处理和期望的性质有关。

该堆叠体的复杂性以及处理和期望性质的多样性使得需要调节该阻挡层的特征适应每种结构。

在传统使用的阻挡层中，可以提到基于选自铌Nb、钽Ta、钛Ti、铬Cr或者镍Ni的金属或者基于由这些金属至少两种获得的合金，特别地基于镍和铬(Ni/Cr)的合金的阻挡层。

基于镍和铬的阻挡层允许降低雾度和改善在淬火类型热处理之后的机械性质。然而，这些层的存在使该堆叠体的辐射性、吸收和导电性(特别地通过促进电子扩散)劣化。这些层还减弱与用于促进银结晶的稳定层(如氧化锌层)的存在相关的有益影响，当这些阻挡层被插入在稳定层和银层之间时。

本发明非常特别地涉及一种窗玻璃，其必须经历高温热处理，如退火、弯曲和/或淬火。然而，高温热处理可以引起在银层内的改变，特别地产生缺陷。这些缺陷中一些以孔穴或者圆丘形式存在。

“孔穴”类型的缺陷对应于出现缺少银的区域(显示出环形或者树枝形状)，即对应于银层的部分反润湿(demouillage)。该银层，在热处理之后，是包含环形或者树枝形状孔穴(对应于无银区域)的银层。使用显微镜观察的银层看起来是平面的。在具有银的区域处获取的这种层的厚度改变不大。

“圆丘”类型缺陷对应于“大”银颗粒的存在，其引起在银层内的厚度变化，即加厚区域和变薄区域。厚度变化可以点状的，即仅仅在所述“大”颗粒处观察到。银层因此可以具有均匀的厚度，除大晶体位置之外。由于银层的围绕所述“大”颗粒的重排，厚度变化可以是更宽幅的。“圆丘”类型缺陷不对应于“孔穴”类型缺陷的中间状态。

附图1.a是使用透射式电子显微镜拍摄的孔穴类型缺陷在截面中的图像。附图1.b是使用扫描电子显微镜拍摄的图像，其通过白线定位附图1.a的截面。

附图2是使用透射式电子显微镜拍摄的圆丘类型缺陷在截面中的图像。

在这些附图中，区分出玻璃基材1，位于银层下方的包含数个电介质层的抗反射涂层2，银层3，位于该银层上方的抗反射涂层4和保护层5。

这些图像清楚地显示在孔穴类型缺陷和圆丘类型缺陷之间的差异。