[发明专利]用于基于多光子电离的皮肤处理的皮肤处理设备

权利要求书

1.一种皮肤处理设备(200)，用于在皮肤组织(102)中的目标位置(110)产生多光子电离过程，所述皮肤处理设备(200)包括：

激光源(105)，其被配置并构造为用于产生处理激光束(106)；

光学系统(109、112)，其被配置并构造为使得，在使用时，所述处理激光束(106)被聚焦到所述皮肤组织(102)中的所述目标位置(110)的焦斑内，

等离子体单元(117)，其被配置并构造为用于产生等离子体(100)使得，在使用中，所述等离子体(100)的至少一部分穿透所述皮肤组织(102)，并且在所述皮肤组织(102)中的所述目标位置(110)生成至少一个自由电子，和

控制单元(123)，其被配置并构造为用于控制所述激光源(105)和所述等离子单元(117)，

其特征在于，所述激光源(105)和所述光学系统(109、112)被配置并构造成使得，在使用时，在所述皮肤组织(102)中的所述焦斑内的所述处理激光束(106)的功率密度低于用于所述皮肤组织(102)的第一功率密度阈值(I_th1)，高于该第一功率密度阈值，自由电子在所述皮肤组织(102)内通过吸收存在于所述处理激光束(106)中的光子而产生，并且在所述焦斑内的所述处理激光束(106)的功率密度高于用于所述皮肤组织(102)的第二功率密度阈值(I_th2)，高于该第二功率密度阈值雪崩电离过程在所述皮肤组织(102)内由存在于所述处理激光束(106)中的光子的自由电子通过逆轫致辐射吸收而产生。

2.根据权利要求1所述的皮肤处理设备(200)，其中所述控制单元(123)被配置并构造为激活所述激光源(105)以仅在由所述等离子体单元(117)产生所述等离子体(100)之后，产生所述处理激光束(106)。

3.根据权利要求1所述的皮肤处理设备(200)，其中所述皮肤处理设备(200)还包括由所述控制单元(123)控制的电场发生器，其中所述电场发生器被配置并构造为用于在使用中产生电场，以朝向所述目标位置(110)引导所述等离子体(100)。

4.根据权利要求3所述的皮肤处理设备(200)，其中所述控制单元被配置并构造为调节由所述电场发生器所产生的电场的强度，以达到所述等离子体(100)朝向所述目标位置(110)的期望的穿透深度和/或期望的穿透速度。

5.根据权利要求1所述的皮肤处理设备(200)，其中所述等离子体单元(117)包括等离子体通道(118)，在所述等离子体通道中所述等离子体(100)被产生，并且其中，在使用中，流体经过所述等离子体通道(118)流向皮肤表面(103)，所述流体的至少一部分在所述等离子体通道(118)中被转换成所述等离子体(100)。

6.根据权利要求5所述的皮肤处理设备(200)，其中所述等离子体通道(118)包括用于朝向所述皮肤表面(103)发射所述等离子体(100)的出口，所述出口被配置并构造为用于朝向所述目标位置(110)引导所述等离子体(100)。

7.根据权利要求5所述的皮肤处理设备(200)，其中所述流体包括惰性气体。

8.根据权利要求1所述的皮肤处理设备(200)，其中所述等离子体单元(117)包括在皮肤表面(103)处或附近的等离子体发生装置(113、114)，用于在所述皮肤表面(103)处或附近产生所述等离子体(100)。

9.根据权利要求1所述的皮肤处理设备(200)，其中所述等离子体单元(117)被配置为生成直接等离子体、间接等离子体和/或混合等离子体。

10.根据权利要求1所述的皮肤处理设备(200)，其中由所述等离子体单元(117)产生的等离子体(100)包括非热等离子体。