[发明专利]用于监测真空反应器设备中的硒蒸气的方法

权利要求书

1.一种系统，其包括：

真空腔室；

容纳在所述真空腔室中的蒸气源，其中所述蒸气源经配置以产生蒸气；

容纳在所述真空腔室中且耦合到所述蒸气源的反应容器，其中所述反应容器具有通往所述真空腔室的出口，且其中所述反应容器经配置以从所述蒸气源接收所述蒸气且经由所述出口将所述所接收蒸气的一部分排放到所述真空腔室中；以及

容纳在所述真空腔室中的一个或多个传感器，其中所述一个或多个传感器经配置以检测经由所述出口排放的所述蒸气。

2.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括经配置以控制所述反应容器从所述蒸气源接收的所述蒸气的量的阀门。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述阀门经配置以响应于一个或多个控制信号而控制所述蒸气的所述量。

4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的系统，其中所述蒸气包括硒。

5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的系统，其中所述传感器包括微天平、离子计或硒速率监测器。

6.根据权利要求1到5中任一权利要求所述的系统，其中所述蒸气源具有第一压力，所述反应容器具有第二压力，且所述真空腔室具有第三压力。

7.根据权利要求6所述的系统，其中所述第一压力大于所述第二压力，且所述第二压力大于所述第三压力。

8.根据权利要求6到7中任一权利要求所述的系统，其中所述第一压力在约10⁺¹到约10^-2的范围内，所述第二压力在约10^-2到约10^-4的范围内，且所述第三压力在约10^-4到约10^-6的范围内。

9.根据权利要求1到8中任一权利要求所述的系统，其中所述一个或多个传感器包括各自容纳在所述真空腔室中的第一传感器和第二传感器。

10.根据权利要求9所述的系统，其中所述第一传感器定位在所述出口正上方，且所述第二传感器从所述出口偏移。

11.根据权利要求9或10中任一权利要求所述的系统，其进一步包括第三传感器，其中所述第三传感器从所述出口偏移。

12.根据权利要求9所述的系统，其中所述第一传感器和所述第二传感器各自从所述出口偏移。

13.一种方法，所述方法包括：

经由阀门将蒸气从高压力区转移到中等压力区；

经由出口将所述所转移蒸气的一部分从所述中等压力区排放到低压力区；以及

通过所述低压力区中的传感器检测经由所述出口排放的所述蒸气。

14.根据权利要求13所述的方法，其进一步包括：

基于所述传感器检测到的所述蒸气产生控制信号；以及

基于所述控制信号控制所述阀门。

15.根据权利要求13所述的方法，其中基于所述控制信号控制所述阀门包括控制所述蒸气从所述高压力区到所述中等压力区的转移速率。

16.根据权利要求13到15中任一权利要求所述的方法，其中所述蒸气包括硒。

17.根据权利要求13到15中任一权利要求所述的方法，其中所述传感器包括微天平、离子计或硒速率监测器。

18.根据权利要求13到17中任一权利要求所述的方法，其进一步包括：

在所述高压力区中产生所述蒸气；以及

使所述蒸气在所述中等压力区中反应。

19.根据权利要求13到17中任一权利要求所述的方法，其进一步包括：

通过所述低压力区中的第二传感器检测经由所述出口排放的所述蒸气；以及

通过所述低压力区中的第三传感器检测经由所述出口排放的所述蒸气。

20.根据权利要求13到19中任一权利要求所述的方法，其中所述方法是使用根据权利要求1到12中任一权利要求所述的系统来执行。