[发明专利]用于OLED装置的纳米结构有效

专利信息
申请号: 201480061278.8 申请日: 2014-10-20
公开(公告)号: CN105706242B 公开(公告)日: 2019-06-18
发明(设计)人: 迈克尔·本顿·弗里;马丁·B·沃克;谢尔盖·拉曼斯基;奥勒斯特尔·小本森 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾丽波;井杰
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 oled 装置 纳米 结构
【说明书】:

本公开描述了使用纳米结构化叠层转印膜采用层合技术制造具有纳米结构化固体表面的OLED的方法。所述方法涉及膜、层或涂层的转印和/或复制,以便直接在光敏光学耦合层(pOCL)上形成纳米结构化表面,所述纳米结构化表面与例如顶部发射有源矩阵OLED(AMOLED)装置中的OLED的所述发射表面接触。随后使所述pOCL层固化以形成光学耦合层(OCL)并移除所述纳米结构化膜工具,从而得到纳米结构化OLED。

背景技术

纳米结构和微观结构用于显示设备、照明装置、结构装置和光伏器件中的多种应用。在包括有机发光二极管(OLED)装置的显示装置中,所述结构可用于光提取或光分布。在照明装置中,所述结构可用于光提取、光分布和装饰效果。在光伏器件中,所述结构可用于太阳能聚集和减反射。在大的基底上图案化或换句话讲形成纳米结构和微观结构可能困难且成本效益不高。

发明内容

本公开描述了使用纳米结构化叠层转印膜采用层合技术制造具有纳米结构化固体表面的OLED的方法。该方法涉及膜、层或涂层的转印和/或复制,以便直接在光敏光学耦合层(pOCL)上形成纳米结构化表面,该纳米结构化表面与例如顶部发射有源矩阵OLED(AMOLED)装置中的OLED的发射表面接触。随后使pOCL层固化形成光学耦合层(OCL)并移除纳米结构化膜工具,从而得到纳米结构化OLED。在一个方面,本公开提供了一种图像显示器,该图像显示器包括至少一个具有顶部表面的OLED;以及与顶部表面接触的高折射率光学耦合层(OCL),该高折射率光学耦合层具有纳米结构化外表面。

在另一个方面,本公开提供了一种方法,该方法包括将光学耦合层(OCL)前体涂覆在OLED阵列的顶部表面上,形成平坦化的OCL前体表面;将具有纳米结构化表面的模板膜层合至OCL前体表面上,使得OCL前体至少部分地填充纳米结构化表面;使OCL前体聚合以形成纳米结构化OCL;以及移除模板膜。

在另一个方面,本公开提供了一种方法,该方法包括将光学耦合层(OCL)前体涂覆在OLED阵列的顶部表面上,形成平坦化的OCL前体表面;将模板膜层合至OCL前体表面上,使得模板膜的转印层的平坦外表面接触OCL前体表面,其中转印层包括嵌入式纳米结构化表面;使OCL前体聚合以形成OCL并将转印层的平坦外表面粘结到OCL;以及将模板膜从所述转印层移除。

在另一个方面,本公开提供了一种方法,该方法包括将光学耦合层(OCL)前体涂覆在模板膜的纳米结构化表面上;将模板膜层合至OLED阵列的主表面上,使得OCL前体接触主表面;使OCL前体聚合以形成OCL并将OCL粘结到OLED阵列的主表面;以及移除模板膜。

在另一个方面,本公开提供了一种方法,该方法包括在模板膜的纳米结构化表面上形成纳米结构化层,使得纳米结构化层具有平坦外表面和嵌入式纳米结构化表面;将光学耦合层(OCL)前体涂覆在平坦外表面上以形成转印膜;将转印膜层合至OLED阵列的主表面上,使得OCL前体接触主表面;使OCL前体聚合以形成OCL并将OCL粘结到OLED阵列的主表面;以及将模板膜从纳米结构化层移除。

在另一个方面,本公开提供了一种方法,该方法包括将光学耦合层(OCL)前体涂覆在OLED阵列的顶部表面上,形成平坦化的OCL前体表面;将具有纳米结构化表面的模板膜层合至平坦化的OCL前体表面上,使得OCL前体至少部分地填充纳米结构化表面;使OCL前体在所选择的区域聚合以形成具有未聚合区域的图案化的纳米结构化OCL;移除模板膜;以及使未聚合区域聚合。

在另一个方面,本公开提供了一种方法,该方法包括将光学耦合层(OCL)前体涂覆在OLED阵列的顶部表面上,形成平坦化的OCL前体表面;掩蔽OCL前体的所选择的区域以阻止聚合;使OCL前体聚合以形成具有未聚合区域的图案化OCL;将转印膜层合至图案化OCL上,使得转印膜的转印层接触图案化OCL的主表面,其中转印层包括平坦外表面和嵌入式纳米结构化表面;将转印膜从图案化OCL移除,从而在所选择的区域中留下转印层;以及使图案化OCL的未聚合区域聚合,以将平坦的外转印层粘结到OCL的所选择的区域。

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