[发明专利]高表面积光催化剂材料及其制造方法

权利要求书

1.一种光催化材料，包含：

纳米结构，所述纳米结构包含光催化组合物的薄结构，所述光催化组合物包含无机化合物，所述薄结构被所述光催化组合物的薄结构的呈相反侧的第一表面和第二表面所界定；

其中，所述光催化组合物的薄结构的厚度比所述第一表面的面积的平方根更小；

其中，所述光催化组合物的薄结构是自立性的，

并且，其中，所述光催化组合物包含基于所述组合物总质量而言0.3％至1％的碳、0.1％至0.4％的氮，

所述光催化材料的BET比表面积为至少150m²/g，

所述光催化材料是通过下述方法制造的：

在足以引发燃烧的温度下对包含光催化剂前体、还原剂和氧化剂的液体分散体系进行加热，其中，加热持续足以形成固体产物的时间，

其中，所述固体产物在高于对液体分散体系进行加热的温度的第一退火温度下被退火，然后再在高于所述第一退火温度的第二退火温度下被退火。

2.如权利要求1所述的光催化材料，其中，所述纳米结构是纳米片材形状的、纳米薄片形状的、拟平面形状的、或带状的。

3.如前述任一项权利要求所述的光催化材料，其中，所述纳米结构的至少一部分是波浪状的。

4.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述纳米结构不具有从所述第一表面穿过所述光催化组合物的薄结构到所述第二表面的孔。

5.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述光催化组合物的薄结构的厚度为10nm至200nm。

6.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述光催化组合物的薄结构的厚度为10nm至25nm。

7.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述第一表面的面积的平方根是所述光催化组合物的薄结构的厚度的至少10倍。

8.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述无机化合物是金属氧化物。

9.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述光催化组合物掺杂或负载有碳、氮或银。

10.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述光催化组合物包含钛和锡的氧化物，并且掺杂或负载有碳、氮和银。

11.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述光催化组合物包含基于所述组合物的摩尔比而言40％至99％的钛。

12.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述光催化组合物包含基于所述组合物的摩尔比而言0％至20％的锡。

13.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述光催化组合物包含基于所述组合物的摩尔比而言0％至20％的银。

14.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述光催化组合物包含基于所述组合物的摩尔比而言2％至10％的碳。

15.如权利要求1或2所述的光催化材料，其中，所述光催化组合物包含基于所述组合物的摩尔比而言2％至5％的氮。

16.一种制造高表面积光催化剂的方法，所述方法包括：在足以引发燃烧的温度下对包含光催化剂前体、还原剂和氧化剂的液体分散体系进行加热，其中，加热持续足以形成固体产物的时间，

其中，所述固体产物在高于对液体分散体系进行加热的温度的第一退火温度下被退火，然后再在高于所述第一退火温度的第二退火温度下被退火。

17.如权利要求16所述的方法，其中，所述氧化剂与还原剂的摩尔比为5:1至1:5。