[发明专利]气体处理设备

权利要求书

1.一种气体处理设备，包含：

能够操作来接收源自制造过程工具的流出气流、以使流出气流在其内被洗涤从而提供洗涤后的气流的气体洗涤腔室（20）；和

能够操作来接收所述洗涤后的气流以使所述洗涤后的气流在其内被处理从而提供处理后的气流的静电沉降腔室（60），所述静电沉降腔室限定第一腔室（60），且所述气体洗涤腔室限定第二腔室（20），所述第一腔室被构造为同心地围绕所述第二腔室，使得所述第二腔室嵌套在所述第一腔室内，其中所述第一腔室和所述第二腔室享有共用壁（80），所述共用壁的内表面限定所述第二腔室的外壁，且所述共用壁的外表面限定所述第一腔室的内壁，所述第二腔室（20）包含由所述共用壁（80）的所述内表面限定的细长腔室，且所述第一腔室（60）包含由所述共用壁（80）的所述外表面和包围壁（90）的内表面限定的细长环状腔室，其中，所述静电沉降腔室包含位于所述共用壁（80）的所述外表面和所述包围壁（90）的所述内表面之间的细长环状的电极结构（100），以及用于喷射液体以提供沿着所述共用壁的所述外表面和所述包围壁的所述内表面两者圆周地流动的液幕的出口，其中，所述气体洗涤腔室包含至少局部地限定所述气体洗涤腔室且包含筛板（40）的集液箱，所述集液箱能够操作来将固定流量的被接收液体通过所述筛板（40）提供到所述气体洗涤腔室，并且提供沿着所述共用壁（80）的所述外表面流下的液幕；其中，所述气体洗涤腔室包含用于接收所述流出气流的流出气流入口，以及将所述洗涤后的气流输送到所述静电沉降腔室的入口的管道（70），所述静电沉降腔室的入口定位成远离用于所述细长环状的电极结构的悬挂结构，所述静电沉降腔室包含用于提供处理后气流的处理后气流出口，所述流出气流入口和所述处理后气流出口被定位成促使气体沿着所述气体洗涤腔室和所述静电沉降腔室两者的轴向长度流动。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述细长环状的电极结构被定位为在所述共用壁的所述外表面和所述包围壁的所述内表面之间的固定距离。

3.如权利要求1或2所述的设备，其中所述细长环状的电极结构包含朝着所述共用壁的所述外表面和所述包围壁的所述内表面延伸的放电点。

4.如权利要求3所述的设备，其中朝着所述共用壁的所述外表面延伸的所述放电点的数量和朝着所述包围壁的所述内表面延伸的所述放电点的数量的比值与所述共用壁的所述外表面的面积和所述包围壁的所述内表面的面积的比值成比例。