[发明专利]具有前和后成像系统的打印机

权利要求书

1.一种打印系统，包括用于捕获接收介质(10)的图像的多个成像系统，包括：

传输系统(12)，用于沿传输通路经过所述打印系统来传输接收介质(10)，所述接收介质(10)具有第一面(10A)和相对的第二面(10B)；

一个或多个打印模块(20)，用于在所述接收介质(10)上形成打印图像，

其特征在于还包括：

照射系统(48)，用于采用提供照射图案(50)的光来照射所述接收介质(10)的所述第一面(10A)，其中所述照射图案(50)中的所述光的一部分从所述接收介质(10)的所述第一面(10A)来反射，由此提供反射照射图案(52)，并且所述照射图案(50)中的所述光的一部分经过所述接收介质(10)透射到所述接收介质(10)的所述第二面(10B)，由此提供透射照射图案(54)；

第一成像系统(40)，定位成捕获所述接收介质(10)的第一面(10A)的至少一部分的图像，所述第一成像系统(40)具有包括所述反射照射图案(52)的至少一部分的视场；

第二成像系统(45)，定位成捕获所述接收介质(10)的所述第二面(10B)的至少一部分的图像，所述第二成像系统(45)具有包括所述透射照射图案(54)的至少一部分的视场；

数据处理系统(7)；以及

程序存储器，在通信上连接到所述数据处理系统(7)，并且存储指令，其配置成使所述数据处理系统(7)实现用于对齐所述第一和第二成像系统(40,45)的方法，其中所述方法包括：

使用所述第一成像系统(40)来捕获所述接收介质(10)的所述第一面(10A)的第一图像，所述第一图像包括所述反射照射图案(52)的至少一部分；

使用所述第二成像系统(45)来捕获所述接收介质(10)的所述第二面(10B)的第二图像，所述第二图像包括所述透射照射图案(54)的至少一部分；

分析所述所捕获的第一和第二图像，以确定所述第一图像中的所述反射照射图案(52)和所述第二图像中的所述透射照射图案(54)的相对位置；

响应所述所确定的相对位置而确定一个或多个成像系统对齐参数(225)；以及

将所述所确定的成像系统对齐参数(225)存储在处理器可访问存储器中，以供以后将采用所述第一成像系统(40)所捕获的图像与采用所述第二成像系统(45)所捕获的图像对齐中使用。

2.如权利要求1所述的打印系统，其中，所述成像系统对齐参数(225)包括轨迹内偏移参数、跨轨迹偏移参数、歪斜角偏移参数或放大调整参数。

3.如权利要求1所述的打印系统，其中，所述成像系统对齐参数(225)包括将采用所述第一成像系统(40)或所述第二成像系统(45)所捕获的图像的坐标变换成参考坐标系的坐标变换的参数。

4.如权利要求3所述的打印系统，其中，所述参考坐标系是与所述第一成像系统(40)或者所述第二成像系统(45)关联的坐标系。

5.如权利要求1所述的打印系统，其中，所述第二图像以与所述第一图像基本上相同的时间来捕获。

6.如权利要求1所述的打印系统，其中，所述第二图像在与所述第一图像不同的时间来捕获。

7.如权利要求1所述的打印系统，其中，所述照射系统(48)是可拆卸模块，其能够安装在所述打印系统中，同时它执行对齐所述第一和第二成像系统(40,45)的所述方法，并且能够在其他时间从所述打印系统中移开。

8.如权利要求1所述的打印系统，其中，所述照射图案(50)包括位于跨所述接收介质(10)的宽度的不同位置的多个照射特征。

9.如权利要求1所述的打印系统，其中，所述成像系统的至少一个包括二维传感器阵列，其捕获所述接收介质(10)上的二维区域的图像。

10.如权利要求9所述的打印系统，其中，所述照射图案(50)包括一个或多个基准。

11.如权利要求1所述的打印系统，其中，所述成像系统的至少一个包括一维传感器阵列，其捕获所述接收介质(10)上的线性图像区域的图像。

12.如权利要求11所述的打印系统，其中，所述照射图案(50)包括与所述线性图像区域相交的多个线性特征，所述线性特征的至少一部分具有不同的倾斜角。