[发明专利]涂布膜

说明书

技术领域

本发明涉及适于作为脱模膜的聚酯膜，例如，涉及作为成型同时 转印等的转印用、柔性印刷布线板的制造用、塑料片材制造用的工程 纸用等各种工程中使用的工程用膜、或者作为包覆带等的保护膜使用 的、特别是抑制工程中或剥离引起的静电的产生、抑制尘埃和小污垢 附着的、透明的脱模聚酯膜。

背景技术

在现有技术中，以聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯 为代表的聚酯膜具有机械强度、尺寸稳定性、平坦性、耐热性、耐药 品性、光学特性等优异的特性，并且成本效益优异，因此被用于各种 用途。将聚酯膜用作脱模膜时，由于对于各种树脂和粘接剂的脱模性 不足，存在缺乏实用性的缺点。因此，一直以来，研究了在聚酯膜表 面叠层脱模性涂膜的方法。例如，提出了在聚酯膜表面涂布叠层含长 链烷基的树脂的方法(专利文献1、2)等。

聚酯膜容易因加工工序或制品使用时的接触摩擦或剥离而产生静 电，因而容易附着尘埃或小污垢。因此，存在工序内的污染和异物混 入的危险。另外，也存在加工时二张取出或滑动不良等膜供给或排出 适合性变差的问题。因此，在需要避免异物混入或带电的用途中，提 出了在聚酯膜表面涂布叠层抗静电剂的方法(专利文献3)等。

脱模性涂膜和抗静电性涂膜有时也加工成单独的涂膜，但是从制 造工序增加的观点考虑，优选由同一涂膜赋予脱模性和抗静电性。但 是，将它们加工成同一涂膜时，存在难以妥善地获得脱模性和抗静电 性、或者涂膜的外观劣化的问题。外观劣化了的膜由于涂膜的不均匀， 有时脱模性和抗静电性不均匀，性能的稳定性欠缺。另外，透过脱模 膜看见的制品的辨识性也劣化，存在无法通过工序检查发现制品缺陷 的可能性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002－240016号公报

专利文献2：日本特开2006－022136号公报

专利文献3：日本特开平7－26223号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是鉴于上述问题而完成的，其要解决的课题在于提供一种 涂布膜，其作为成型同时转印等的转印用、柔性印刷布线板的制造用、 塑料片材制造用的工程纸用等、各种工程中使用的工程用膜、或者包 覆带等的保护膜使用，抑制静电的产生，具有适宜的脱模性，且透明 性优异。

用于解决课题的方法

本发明的发明人鉴于上述情况进行了深入研究，结果发现，如果 使用包括特定构成的涂布膜，能够容易地解决上述课题，从而完成了 本发明。

即，本发明的要点在于一种涂布膜，其特征在于，在聚酯膜的至 少一个面具有由含有脱模剂和抗静电剂、以及丙烯酸树脂或聚乙烯醇 的涂布液形成的涂布层，上述脱模剂包括含长链烷基的化合物。

发明效果

根据本发明的涂布膜，在作为成型同时转印等的转印用等的各种 的工程用膜使用时，能够提供脱模性和透明性优异、带电少的脱模聚 酯膜，其工业价值高。

具体实施方式

构成本发明的涂布膜的聚酯膜可以是单层结构也可以是多层结 构，除了2层、3层结构以外，只要不超出本发明的要点，也可以是4 层或4层以上的多层，没有特别限定。

聚酯既可以是均聚聚酯，也可以是共聚聚酯。由均聚聚酯构成时， 优选使芳香族二元羧酸与脂肪族二元醇缩聚而得到的聚酯。作为芳香 族二元羧酸，可以列举对苯二甲酸、2,6－萘二甲酸等，作为脂肪族二 元醇，可以列举乙二醇、二乙二醇、1,4－环己烷二甲醇等。作为代表 性的聚酯，可以例示聚对苯二甲酸乙二醇酯等。另一方面，作为共聚 聚酯的二元羧酸成分，可以列举间苯二甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲 酸、2,6－萘二甲酸、己二酸、癸二酸、羟基羧酸(例如对羟基苯甲酸 等)等的一种或二种以上，作为二元醇成分，可以列举乙二醇、二乙 二醇、丙二醇、丁二醇、4－环己烷二甲醇、季戊二醇等的一种或二种 以上。

作为聚酯的聚合催化剂，没有特别限制，能够使用现有公知的化 合物，例如，可以列举锑化合物、钛化合物、锗化合物、锰化合物、 铝化合物、镁化合物、钙化合物等。