[发明专利]含硅的热或光固化性组合物有效
申请号: | 201480057606.7 | 申请日: | 2014-10-14 |
公开(公告)号: | CN105764993B | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
发明(设计)人: | 吉田尚史;田代裕治 | 申请(专利权)人: | AZ电子材料(卢森堡)有限公司 |
主分类号: | C08L83/14 | 分类号: | C08L83/14;C09D183/14;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/075 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人: | 刘淼 |
地址: | 卢森堡(L-1*** | 国省代码: | 卢森堡;LU |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光固化 组合 | ||
1.一种热或光固化性组合物,其特征在于,其包含(I)聚硅氧烷、(II)在热或者光的作用下能产生酸或碱的聚合引发剂以及(III)溶剂,
所述聚硅氧烷通过使由下述式(a)表示的硅化合物(i)中的至少一种、以及由下述式(b)或者式(c)表示的硅化合物(ii)中的至少一种在碱催化剂或者酸催化剂下进行反应而获得,
[化学式1]
R1nSi(X)4-n-----(a)
式中,R1表示氢原子或者、任意的-CH2-基任选被-O-、-C=C-或者-CO-替换并且任意的氢任选被氟替换并且也任选具有取代基的碳原子数1~20的直链状或者支链状的烷基、任意的氢任选被氟替换并且也任选具有取代基的碳原子数6~20的芳基、任意的氢任选被氟替换并且也任选具有取代基的碳原子数3~20的环烷基或者任意的氢任选被氟替换并且也任选具有取代基的碳原子数2~20的烯基,X表示氯原子或者碳原子数1~6的烷氧基,n为0~2,
[化学式2]
式中,R2~R5各自相同或不同,表示任选被取代的烷基、任选被取代的芳基或者任选被取代的烯基,M1表示任选被取代的亚芳基、任选被取代的亚联苯基或者任选被取代的碳原子数2~4的亚炔基,Y1以及Y2相同或不同,表示氯原子或者碳原子数1~6的烷氧基,
[化学式3]
式中,R6以及R7相同或不同,表示任选被取代的烷基、任选被取代的芳基或者任选被取代的烯基,M2表示任选被取代的亚芳基、任选被取代的亚联苯基或者任选被取代的碳原子数2~4的亚炔基,Y3~Y6各自相同或不同,表示氯原子或者碳原子数1~6的烷氧基。
2.根据权利要求1所述的热或光固化性组合物,其特征在于,所述聚硅氧烷(I)的预烘烤后的膜对2.38重量%四甲基氢氧化铵水溶液的溶解速度为/秒。
3.根据权利要求1或2所述的热或光固化性组合物,其特征在于,在所述聚硅氧烷(I)中,硅化合物(ii)在全部硅化合物中所占的比例为0.1~40mol%。
4.根据权利要求1或2所述的热或光固化性组合物,其特征在于,相对于聚硅氧烷(I)100重量份,包含0.001~10重量份的所述聚合引发剂(II)。
5.根据权利要求1或2所述的热或光固化性组合物,其特征在于,其进一步含有从由显影液溶解促进剂、膜渣去除剂、密接增强剂、阻聚剂、消泡剂、表面活性剂、以及光敏剂组成的组中选出的至少一种添加剂。
6.一种固化膜的制造方法,其特征在于,其包含如下的工序:
将权利要求1~5中任一项所述的热或光固化性组合物涂布于基板而形成涂膜的工序,通过使该涂膜曝光于加热或者辐射线而产生酸或碱的工序,以及将加热或者曝光后的涂膜进行加热焙烧,将涂膜进行固化的工序。
7.一种固化膜的制造方法,其为权利要求6所述的固化膜的制造方法,其特征在于,使用光固化性组合物作为热或光固化性组合物,在利用光将其进行曝光之后,进一步设置将曝光了的涂膜进行显影的工序。
8.一种固化膜,其特征在于,其由权利要求1~5中任一项所述的热或光固化性组合物形成。
9.一种元件,其特征在于,其具备权利要求8所述的固化膜。
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