[发明专利]偏振片、偏振片用基板及光取向装置有效
| 申请号： | 201480055919.9 | 申请日： | 2014-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN105659119B | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 登山伸人;笹本和雄;大川泰央;稻月友一 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏振 片用基板 取向 装置 | ||
1.一种偏振片，其特征在于：具有多条呈直线状并列配置的细线，所述细线具有含有偏振材料的偏振材料层，所述偏振材料为硅化钼系材料，且波长250nm的光的消光比为40以上。
2.如权利要求1所述的偏振片，其中，所述偏振片是用于对光取向膜赋予取向约束力，且用于产生紫外线区域的波长的光的线偏振光。
3.如权利要求1或2所述的偏振片，其中，所述偏振材料的波长250nm的光的折射率是在2.0～3.2的范围内，且所述偏振材料的波长250nm的光的消光系数是在2.7～3.5的范围内。
4.如权利要求1或2所述的偏振片，其中，所述偏振材料的波长250nm的光的折射率是在2.3～2.8的范围内，且所述偏振材料的波长250nm的光的消光系数是在1.4～2.4的范围内。
5.如权利要求1或2所述的偏振片，其中，所述偏振材料层的膜厚为40nm以上，且所述偏振材料层间的间距为150nm以下。
6.一种偏振片用基板，其特征在于：包含
透明基板；及
形成于所述透明基板上的含有偏振材料的偏振材料膜，
所述偏振材料为硅化钼系材料，
所述偏振材料膜的波长250nm的光的折射率是在2.0～3.2的范围内，波长250nm的光的消光系数是在2.7～3.5的范围内。
7.一种偏振片用基板，其特征在于：包含
透明基板；及
形成于所述透明基板上的含有偏振材料的偏振材料膜，
所述偏振材料为硅化钼系材料，
所述偏振材料膜的波长250nm的光的折射率是在2.3～2.8的范围内，波长250nm的光的消光系数是在1.4～2.4的范围内。
8.一种光取向装置，其是使紫外光偏振并照射至光取向膜的光取向装置，其特征在于：具备权利要求1～5中任一项所述的偏振片，且将藉由所述偏振片而偏振的光照射至所述光取向膜。
9.如权利要求8所述的光取向装置，其中，
具备使所述光取向膜移动的机构，
在所述光取向膜的移动方向以及与所述光取向膜的移动方向呈正交的方向这两个方向具备多个所述偏振片，且
以在与所述光取向膜的移动方向呈正交的方向相邻的所述多个偏振片间的交界部不在所述光取向膜的移动方向连续地连接的方式配置所述多个偏振片。
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