[发明专利]光学元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201480053466.6 申请日: 2014-09-29
公开(公告)号: CN105579412B 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 西村法一;山本英明;佐藤浩一 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: C03C17/245 分类号: C03C17/245;C03B11/00;G02B3/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 元件 及其 制造 方法
【说明书】:

本发明提供一种光学元件的制造方法,其能够抑制在模压成型后的光学元件中产生气泡。本发明涉及一种光学元件,其具有氧化物玻璃、和被覆所述氧化物玻璃的表面的至少一部分的被覆膜,所述被覆膜为与化学计量组成相比处于氧欠缺状态的金属氧化物膜,并且,在所述氧化物玻璃的玻璃转变温度以上的温度下,所述金属氧化物膜收容所述氧化物玻璃所含有的氧原子的速度比所述金属氧化物膜中所含有的金属原子向所述氧化物玻璃扩散的速度快。

关联申请的相互参照

本发明主张2013年9月30日申请的日本特愿2013-205497号的优先权,该申请的所有记载都公开于此作为引用。

技术领域

本发明涉及光学元件及其制造方法。

背景技术

作为制造玻璃透镜等光学元件的方法,已知有下述方法:通过相对的具有成型面的上模和下模,对成型坯料(以下称为“模压成型用玻璃坯料”或“预塑型坯”。)进行模压成型。

通过模压成型进行玻璃光学元件的成型时,模压成型用玻璃坯料与成型模具的成型面在高温状态下密合,因此在它们的界面处产生化学反应,有时会发生热粘、模糊、伤痕状的反应痕等从而导致由模压成型得到的光学元件的光学性能下降。

以往,作为用于防止上述反应痕的发生的手段,提出有在模压成型用玻璃坯料的表面设置被覆膜来抑制成型模具与玻璃的反应(例如参照专利文献1)。另外,在专利文献2中提出有下述方案:为了抑制线状痕的发生,在模压成型用玻璃坯料的表面设置氢捕获膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2011-1259号公报

专利文献2:日本特开2004-250295号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而,本发明人的研究结果表明,在基于模压成型的玻璃光学元件的制造中,在模压成型后于玻璃中会产生微小的气泡,从而会导致光学元件的均质性下降。为了提供具有较高的光学性能的光学元件,期望抑制玻璃中的发泡。

因此,本发明人为了寻找抑制玻璃中的发泡的手段,对发生气泡的原因进行了深入研究。其结果为,发现了下述预想不到的现象:即使在非氧化性气氛(氧含有率为几ppm)进行模压成型,在模压成型后的光学元件中产生的气泡也含有大量的氧。作为在非氧化性气氛的模压成型中氧的产生原因,因为仅为氧化物玻璃,所以认为来源于氧化物玻璃的氧与气泡的发生有关。

本发明的一个方式提供一种光学元件的制造方法,其能够抑制在模压成型后的光学元件中产生气泡。

用于解决问题的手段

本发明的一个方式为一种光学元件,其具有氧化物玻璃、和被覆该氧化物玻璃的表面的至少一部分的被覆膜,上述被覆膜为与化学计量组成相比处于氧欠缺状态的金属氧化物膜,并且,在氧化物玻璃的玻璃转变温度以上的温度下,金属氧化物膜收容氧化物玻璃所含有的氧原子的速度比金属氧化物膜中所含有的金属原子向氧化物玻璃扩散的速度快。

本发明的另一个方式为一种光学元件的制造方法,其具备下述工序:准备模压成型用玻璃坯料的工序,该模压成型用玻璃坯料具有氧化物玻璃、和被覆该氧化物玻璃的表面的至少一部分的被覆膜,上述被覆膜为与化学计量组成相比氧欠缺的金属氧化物膜;和对所述模压成型用玻璃坯料进行模压成型从而形成模压成型体的模压工序,

上述模压成型体包含经模压工序后的上述被覆膜,

并且,经模压工序后的被覆膜为氧含有率比模压工序前的被覆膜高的金属氧化物膜。

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