[发明专利]光学薄膜晶体管型指纹传感器在审

专利信息
申请号: 201480053441.6 申请日: 2014-09-17
公开(公告)号: CN105683993A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 刘珍亨;许智镐;高太汉 申请(专利权)人: 硅显示技术有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学薄膜 晶体管 指纹 传感器
【说明书】:

技术领域

发明涉及光学薄膜晶体管型指纹传感器。

背景技术

近来,电容型和光学型广泛地用于指纹传感器中。

通常,电容型指纹传感器通过使用对电压和电流敏感的半导体器 件来感测由人体的指纹形成的电容从而识别指纹。

与此对比,光学型指纹传感器具有良好的耐久性的优点,并且其 配置成包括光源和光学传感器。光学传感器配置成通过感测从光源发 出的光来感测用户的指纹。

更具体地,在传统的光学指纹传感器中,光源和光学传感器以特 定距离和角度设置。当来自光源的光被用户的指纹反射时,光学传感 器可通过感测由指纹反射的光来确定指纹是否被感测。

然而,传统的光学指纹传感器的问题在于,如果从背光单元辐射 的光是白色的,那么在为了保护光学指纹传感器而粘附了保护膜的情 况下,存在指纹图像变差的现象。

发明内容

技术问题

本发明是考虑到现有技术中发生的以上问题而做出的,并且本发 明的目标是由于背光单元配置成包括红色光源、绿色光源和红外线光 源中的至少一种而获得更加改进的指纹图像。

此外,本发明的另一个目标是尽管为了保护光学指纹传感器不受 静电、外部碰撞或刮伤之害而在上侧形成保护膜,但仍获得改进的指 纹图像,而不产生图像质量变差的现象。

技术方案

根据本实施例的用于解决上述问题的光学薄膜晶体管型指纹传感 器配置成包括:背光单元,包括红色光源、绿色光源和红外线光源中 的至少一种并辐射光;以及光传感器单元,感测从所述背光单元辐射并 由用户的指纹反射的光。

根据本发明的另一个实施例,所述红色光源辐射波长可以为620nm 到680nm的光。

根据本发明的另一个实施例,所述绿色光源辐射波长可以为540nm 到580nm的光。

根据本发明的另一个实施例,所述红外线光源辐射波长可以为740 nm或更长的光。

根据本发明的另一个实施例,还可以包括设置在所述光传感器单元 上方的保护膜。

根据本发明的另一个实施例,所述保护膜的厚度可以为10μm或更 厚。

根据本发明的另一个实施例,还可以包括用于将所述保护膜粘附在 所述光传感器单元上方的粘合材料层。

根据本发明的另一个实施例,所述粘合材料层的透射比可以为90% 或更高。

根据本发明的另一个实施例,还可以包括用于感测指纹的接触的薄 膜晶体管。

根据本发明的另一个实施例,所述薄膜晶体管可以包括共面的薄膜 晶体管、交错的薄膜晶体管、反向共面的薄膜晶体管和反向交错的薄膜 晶体管中的任一种。

根据本发明的另一个实施例,所述薄膜晶体管可以包括:绝缘衬底; 在所述绝缘衬底上方形成的半导体有源层;在所述半导体有源层上方 形成的栅极绝缘膜;在所述栅极绝缘膜上方形成的栅极;在所述栅极上 方形成的层间介电膜;以及在所述栅极绝缘膜和所述层间介电膜中形成 的导通孔中形成的源极和漏极。

根据本发明的另一个实施例,所述光传感器单元可以包括:从所述 薄膜晶体管的所述漏极延伸的电极;在延伸的所述电极上方形成的半导 体层;在所述半导体层上方形成的透明电极;在所述半导体层和所述透 明电极上方形成的钝化层;以及在所述钝化层中形成的导通孔中形成并 连接到所述透明电极的偏置电极。

根据本发明的另一个实施例,还可以包括在所述钝化层和所述偏置 电极上方形成的绝缘膜。

有益效果

根据本发明的实施例,因为背光单元配置成包括红色光源、绿色光 源和红外线光源中的至少一种,所以可获得更加改进的指纹图像。

此外,根据本发明的实施例,尽管为了保护光学指纹传感器不受 静电、外部碰撞或刮伤之害而在光学指纹传感器上形成保护膜,但仍 可获得改进的指纹图像,而不产生图像质量变差的现象。

附图说明

图1是根据本发明的实施例的光学薄膜晶体管型指纹传感器的截 面图。

图2是根据本发明的另一个实施例的光学薄膜晶体管型指纹传感 器的截面图。

图3是通过传统光学型薄膜晶体管型指纹传感器获得的指纹图 像。

图4是通过根据本发明的实施例的光学薄膜晶体管型指纹传感器 获得的指纹图像。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于硅显示技术有限公司,未经硅显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480053441.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top