[发明专利]用于处理衬底的系统以及处理衬底的方法

权利要求书

1.一种用于处理衬底的系统，其特征在于包括：

等离子体腔室，用于在其中产生等离子体；

处理腔室，用于容纳所述衬底，所述处理腔室邻近于所述等离子体腔室；以及

可旋转引出电极，设置在所述等离子体腔室与所述衬底之间，所述可旋转引出电极经配置以从所述等离子体提取离子束，且经配置以通过绕引出电极轴旋转来使所述离子束在所述衬底上方扫描，而不需要所述衬底的移动，其中所述可旋转引出电极包括具有平行于所述引出电极轴的纵长尺寸的细长提取孔径。

2.根据权利要求1所述的用于处理衬底的系统，其中所述处理腔室具有界定邻近于所述等离子体腔室的腔室壁表面的腔室壁，所述引出电极轴平行于所述腔室壁表面。

3.根据权利要求1所述的用于处理衬底的系统，还包括可旋转衬底台，其包括：

衬底台板，用于在第一表面上支撑所述衬底；

径向部分，在第二表面上连接到所述台板；

以及旋转构件，连接到所述径向部分，其中所述可旋转衬底台经配置以通过所述旋转构件的旋转而将所述衬底从装载位置移动到处理位置。

4.根据权利要求1所述的用于处理衬底的系统，还包括：衬底台板；枢轴，连接到所述衬底台板，具有平行于所述引出电极轴的枢轴的轴；以及驱动器，连接到所述枢轴，所述驱动器经配置以产生绕所述枢轴的轴的所述衬底的倾斜。

5.根据权利要求4所述的用于处理衬底的系统，还包括：旋转同步器，经配置以产生用于使所述衬底的所述倾斜与所述可旋转引出电极的旋转同步的信号，其中所述可旋转引出电极在绕所述引出电极轴旋转期间配置以使所述离子束在所述衬底上方扫描，而不改变相对于所述衬底的表面的所述离子束的入射角。

6.根据权利要求4所述的用于处理衬底的系统，其中所述系统还包括凸轮，所述凸轮经配置以在所述引出电极轴上旋转且耦合到所述可旋转引出电极，其中在绕所述引出电极轴的旋转期间，所述提取孔径与所述衬底之间的最近距离是恒定的。

7.根据权利要求5所述的用于处理衬底的系统，其中所述离子束包括具有按相对于所述衬底的表面的一入射角范围分布的轨迹的离子，其中相对于所述衬底的所述表面的所述入射角范围在绕所述引出电极轴的所述旋转期间不变化。

8.一种处理衬底的方法，其特征在于包括：

在等离子体腔室中产生等离子体；

将衬底置于衬底固持器上，以使得衬底表面面向所述等离子体腔室；以及

通过在使可旋转引出电极旋转的同时以所述可旋转引出电极从所述等离子体腔室提取离子束来使所述离子束跨越所述衬底而扫描，

其中所述可旋转引出电极具有引出电极轴，所述方法还包括将所述引出电极轴布置为平行于所述衬底表面，

其中所述可旋转引出电极提供具有平行于所述引出电极轴的纵长方向的细长提取孔径。

9.根据权利要求8所述的处理衬底的方法，还包括：

提供枢轴，其连接到所述衬底固持器且具有平行于所述引出电极轴的枢轴的轴；以及

在所述扫描期间产生绕所述枢轴的轴的所述衬底的倾斜。

10.根据权利要求9所述的处理衬底的方法，还包括：

产生用于使所述衬底的所述倾斜与所述可旋转引出电极的旋转同步的信号，其中所述可旋转引出电极使所述离子束在所述衬底上方扫描，而不改变相对于所述衬底的表面的所述离子束的入射角；以及

按照具有按相对于所述衬底的表面的一入射角范围分布的轨迹的多个离子来提取所述离子束，其中相对于所述衬底的所述表面的所述入射角范围在绕所述引出电极轴的所述旋转期间不变化。

11.根据权利要求9所述的处理衬底的方法，还包括：

配置凸轮以在所述引出电极轴上旋转；以及

将所述可旋转引出电极耦合到所述凸轮，其中在绕所述引出电极轴的旋转期间，所述提取孔径与所述衬底之间的最近距离是恒定的。

12.根据权利要求11所述的处理衬底的方法，进一步包括按照脉冲化离子来提取所述离子束，其中在脉冲的第一部分期间，所述离子束撞击在所述衬底上，且在所述脉冲的第二部分期间，所述离子束不撞击在所述衬底上。