[发明专利]偏振片的制造方法在审
申请号: | 201480052976.1 | 申请日: | 2014-09-26 |
公开(公告)号: | CN105579873A | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
发明(设计)人: | 香川英章;冲和宏 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363;G02F1/1337;H01L51/50;H05B33/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏振 制造 方法 | ||
1.一种偏振片的制造方法,其包括以下工序(1)~(3):
(1)准备包含临时支撑体与含有光学各向异性层1及光学各向异性层2 的转印体的转印材料;
(2)剥离所述临时支撑体,而使所述临时支撑体与所述转印体分离;以 及
(3)使所述转印体粘接于包含起偏器的膜上,
其中,光学各向异性层1及光学各向异性层2均为由涂布于所述临时支 撑体上的含有液晶化合物的聚合性组合物形成的层,
并且光学各向异性层1及光学各向异性层2均具有面内的延迟,光学各 向异性层1及光学各向异性层2的慢轴方向彼此相差3°~90°。
2.根据权利要求1所述的制造方法,其中,光学各向异性层2为由直接 涂布于光学各向异性层1上的含有液晶化合物的聚合性组合物形成的层。
3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,光学各向异性层1为由 直接涂布于所述临时支撑体上的含有液晶化合物的聚合性组合物形成的层。
4.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,光学各向异性层1为由 直接涂布于所述临时支撑体上的取向层上的含有液晶化合物的聚合性组合物 形成的层。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其依次包括工序(1)、 (2)、(3)。
6.根据权利要求5所述的制造方法,其中,使所述转印体以通过所述剥 离所获得的面粘接于包含起偏器的所述膜上。
7.根据权利要求1~4中任一项所述的制造方法,其依次包括工序(1)、 (3)、(2),并且在工序(3)中,使所述转印材料以相对于所述临时支撑 体为所述转印体侧的面粘接于包含起偏器的所述膜上。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的制造方法,其中,使包含起偏器 的所述膜中的所述起偏器直接粘接于所述转印体上。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的制造方法,其中,所述起偏器包 含改性或未改性聚乙烯醇。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的制造方法,其中,所述转印体与 包含起偏器的所述膜的所述粘接是使用包含改性或未改性聚乙烯醇的粘接剂 来进行。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的制造方法,其中,在所述工序 (1)与工序(2)及(3)之间,包括将所述转印材料裁剪至0.025m2以下的 工序。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的制造方法,其中,所述临时支 撑体包含聚酯。
13.根据权利要求12所述的制造方法,其中,所述临时支撑体包含聚对 苯二甲酸乙二酯。
14.根据权利要求1~13中任一项所述的制造方法,其还包括通过包含 以下工序(11)~(14)的方法来获得所述转印材料:
(11)将含有液晶化合物的聚合性组合物涂布于所述临时支撑体上;
(12)对工序(11)中所获得的涂布层进行光照射或加热来获得光学各 向异性层1;
(13)将含有液晶化合物的聚合性组合物涂布于工序(12)中所获得的 光学各向异性层1上;以及
(14)对工序(13)中所获得的涂布层进行光照射或加热来获得光学各向 异性层2。
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