[发明专利]用于基于有机溶剂的双性光致抗蚀剂的含磺酸酯的聚合物

权利要求书

1.一种方法，其包括：

制备包括有机溶剂能显影的光致抗蚀剂聚合物的双性化学增幅光致抗蚀剂组合物，其中所述光致抗蚀剂聚合物包括：

(i)由聚(4-羟基苯乙烯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯-共-2-羟基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)表示的基于聚(羟基苯乙烯)的聚合物，并且酸不稳定的磺酸酯部分以5-10重量％的范围存在于所述基于聚(羟基苯乙烯)的光致抗蚀剂聚合物中；

(ii)由聚(5-丙烯酰氧基-2,6-降莰烷内酯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-环戊基酯-共-2-羟基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)或聚(甲基丙烯酸2-[1',1',1'-三氟-2'-(三氟甲基)-2'-羟基)丙基-3-降冰片基酯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-环戊基酯-共-5-丙烯酰氧基-2,6-降莰烷内酯-共-2-羟基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)表示的基于内酯的聚合物，并且酸不稳定的磺酸酯部分以5-31重量％的范围存在于所述基于内酯的光致抗蚀剂聚合物中；或者

(iii)由聚(甲基丙烯酸2-[1',1',1'-三氟-2'-(三氟甲基)-2'-羟基)丙基-3-降冰片基酯-共-甲基丙烯酸2-乙基-2-环戊基酯-共-2-羟基蒎基-3-(4-苯乙烯磺酸酯)表示的不含内酯的光致抗蚀剂聚合物，并且酸不稳定的磺酸酯部分以5-31重量％的范围存在于所述不含内酯的光致抗蚀剂聚合物中。

2.权利要求1的方法，其中使用有机溶剂将化学增幅光致抗蚀剂显影以在光致抗蚀剂膜中产生正性或负性图像。

3.权利要求1的方法，其中将所述光致抗蚀剂聚合物与不含酸不稳定的磺酸酯部分的另外的聚合物共混，其中经共混的聚合物组合提升光致抗蚀剂的溶解反差。

4.权利要求2的方法，其中有机溶剂包括基于多元醇的正性显影溶剂。

5.权利要求4的方法，其中使用基于多元醇的正性显影溶剂将化学增幅光致抗蚀剂显影以在抗蚀剂膜中产生正性图像。

6.权利要求4的方法，其中基于多元醇的正性显影溶剂是乙二醇。

7.权利要求4的方法，其中将基于多元醇的正性显影溶剂与异丙醇组合。

8.权利要求2的方法，其中有机溶剂是基于乙酸酯或基于酮的负性显影溶剂。

9.权利要求8的方法，其中使用基于乙酸酯或基于酮的负性显影溶剂将化学增幅抗蚀剂显影以在抗蚀剂膜中产生负性图像。

10.权利要求9的方法，其中所述负性显影溶剂选自甲基戊基酮、乙酸正丁酯、乙酸正戊酯、和乙基戊基酮、及其组合。