[发明专利]用于使用激光维持等离子体照明输出对样本进行成像的系统及方法

权利要求书

1.一种用于使用激光维持等离子体照明输出对样本进行成像的系统，其包括：

激光维持等离子体照明子系统，其包含：

泵浦源，其经配置以产生包含一或多个第一所选择波长的泵浦照明；

气体容纳元件，其经配置以容纳一定体积的气体；

收集器，其经配置以将来自所述泵浦源的所述泵浦照明聚焦到容纳于所述气体容纳元件内的所述一定体积的气体中，以便在所述一定体积的气体内产生等离子体，其中所述等离子体发射包含一或多个第二所选择波长的宽带辐射；

样本载物台，其用于固定一或多个样本；

成像子系统，其包含：

照明子系统，其经配置以使用从所述激光维持等离子体照明子系统的所述等离子体发射的所述宽带辐射的至少一部分经由照明路径而照明所述一或多个样本的表面；

检测器；

物镜，其经配置以收集来自所述样本的表面的照明，且将经收集照明经由收集路径聚焦到检测器，以形成所述一或多个样本的所述表面的至少一部分的图像；

吹扫室，其容纳所选择吹扫气体且经配置以吹扫所述照明路径及所述收集路径的至少一部分；以及

一或多个光学元件，其经配置以使用所述激光维持等离子体子系统改变数值孔径NA功率分布，以便通过改变经产生的等离子体的形状而调整经发射宽带辐射的功率电平；

其中所述气体容纳元件包括经配置以将所述激光维持等离子体照明子系统的输出与所述照明子系统进行光耦合的透射部分，其中所述透射部分经配置以保持所述吹扫室的气体与所述激光维持等离子体照明子系统的所述气体容纳元件中的一定体积的气体之间的分离。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述气体容纳元件包括：

室，其经配置以容纳一定体积的气体。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述气体容纳元件包括：

等离子体单元，其经配置以容纳一定体积的气体。

4.根据权利要求3所述的系统，其中所述等离子体单元包括：

透射元件；及

一或多个凸缘，其安置于所述透射元件的一或多个端处以用于容纳所述气体。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述气体容纳元件包括：

等离子体灯泡，其经配置以容纳一定体积的气体。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述气体容纳元件的所述透射部分对所述泵浦照明及所述经发射宽带辐射中的至少一者透明。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述气体容纳元件的所述透射部分由CaF₂、MgF₂、结晶石英及蓝宝石中的至少一者形成。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述气体容纳元件容纳气体，所述气体包含惰性气体、非惰性气体及两种或两种以上气体的混合物中的至少一者。

9.根据权利要求1所述的系统，其中所述气体容纳元件容纳气体，所述气体包含稀有气体与一或多个微量物质的混合物。

10.根据权利要求1所述的系统，其中所述泵浦源包括：

一或多个激光器。

11.根据权利要求10所述的系统，其中所述一或多个激光器包括：

一或多个红外激光器、一或多个可见激光器及一或多个紫外激光器中的至少一者。

12.根据权利要求10所述的系统，其中所述一或多个激光器包括：

二极管激光器、连续波激光器或宽带激光器中的至少一者。

13.根据权利要求10所述的系统，其中所述一或多个激光器包括：

发射第一波长的光的第一激光器及发射第二波长的光的至少第二激光器。