[发明专利]研磨用组合物

权利要求书

1.一种研磨用组合物，其含有：在表面固定化有满足下述条件(1)和 (2)的至少一者的官能团而得到的二氧化硅、以及pH调节剂，

条件(1)：所述官能团具有氨基；

条件(2)：所述官能团具有卤素基团。

2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，满足所述条件(2)时， 所述卤素基团包含选自由氟基团、氯基团、溴基团、以及碘基团组成的组中 的至少1种。

3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其用于研磨具有如下的层的 研磨对象物的用途，所述层为含有含Si材料的层。

4.根据权利要求3所述的研磨用组合物，其中，所述含Si材料包含选自 由单晶硅、多晶硅、硅氧化物、以及硅氮化物组成的组中的至少1种。

5.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，满足所述条件(1)时， 所述研磨用组合物用于研磨具有如下的层的研磨对象物的用途，所述层为含 有贵金属的层。

6.根据权利要求5所述的研磨用组合物，其中，所述贵金属包含选自由 金、银、铂、钯、铑、钌、铱、以及锇组成的组中的至少1种。

7.一种研磨方法，其包括使用权利要求1～6中任一项所述的研磨用组合 物来研磨具有研磨对象物的被研磨材料的工序。

8.一种基板的制造方法，其包括利用权利要求7所述的研磨方法进行研 磨的工序。

9.一种研磨用组合物的制造方法，其包括：将在表面固定化有满足下述 条件(1)和(2)的至少一者的官能团而得到的二氧化硅与pH调节剂混合，

条件(1)：所述官能团具有氨基；

条件(2)：所述官能团具有卤素基团。