[发明专利]可曝光成像的材料和相关的电子器件及方法在审
申请号: | 201480050881.6 | 申请日: | 2014-07-15 |
公开(公告)号: | CN105555822A | 公开(公告)日: | 2016-05-04 |
发明(设计)人: | 吕少峰;D·巴策尔;黄春;王鸣辉;M·麦克雷;夏禹;安东尼欧·菲奇提 | 申请(专利权)人: | 飞利斯有限公司 |
主分类号: | C08G12/28 | 分类号: | C08G12/28;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人: | 尹吉伟 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 成像 材料 相关 电子器件 方法 | ||
1.一种可曝光成像的组合物,所述组合物包括具有下式的聚合物:
其中:
U和U’,每次出现,独立地选自由以下组成的组:卤素、CN、C
W和W’独立地为–Ar[–Y–Ar]
Ar,每次出现,独立地为二价C
Y,每次出现,独立地选自由以下组成的组:–O–、–S–、–S(O)
q选自0、1、2、3、4、5、6、7、8、9和10;
Z和Z’独立地选自由以下组成的组:–O–、–S–和–Se–;
L和L’,每次出现,独立地选自由以下组成的组:–O–、–S–、二价C
T和T’,每次出现,独立地为Q或R,其中:
Q是含有乙烯基部分、乙炔基部分、环氧基部分、
p为1、2、3、4、5、6、7或8;
p’为0、1、2、3、4、5、6、7或8;
x和x’独立地为0、1、2、3或4;
m是实数,其中0<m≤1;并且
n是10至500范围内的整数。
2.权利要求1所述的组合物,其中Q是含有二烯基部分、丙烯酸根部分、香豆素部分或其组合的可交联基团。
3.权利要求1所述的组合物,其中Q选自由以下组成的组:
其中R
4.权利要求1所述的组合物,其中U和U’,每次出现,独立地选自由以下组成的组:F、Cl、CH
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