[发明专利]卫生清洗装置

权利要求书

1.一种卫生清洗装置，该卫生清洗装置包括：

喷嘴装置，其喷出清洗水；

清洗水供给流路，其将上述清洗水提供至上述喷嘴装置；以及

控制部，

上述清洗水供给流路具备：

水泵，其将上述清洗水送给至上述喷嘴装置；

热交换器，其处于上述水泵的上游侧，对上述清洗水进行加热；以及

副水箱，其处于上述热交换器的上游侧，使上述清洗水供给流路的一部分向大气开放，

上述副水箱具备：

配置在上表面的大气开放口；

被分隔壁分割形成的入水槽和存积槽；

入水口，其配置在上述入水槽的底部附近；以及

出水口，其配置在上述存积槽的底部附近，

该卫生清洗装置具有如下结构：从上述入水口流入到上述入水槽中的上述清洗水越过上述分隔壁的上端而向上述存积槽流入。

2.根据权利要求1所述的卫生清洗装置，其中，

上述副水箱在上述入水槽的上表面开口部与上述大气开放口之间具备从上述副水箱的侧壁突出的障壁。

3.根据权利要求1所述的卫生清洗装置，其中，

上述入水槽具备多个整流肋，所述多个整流肋从上述分隔壁和上述副水箱的与上述分隔壁对置的侧壁交替地突出。

4.根据权利要求1所述的卫生清洗装置，其中，

上述副水箱还具备水位检测传感器，该水位检测传感器对存积在上述副水箱内的上述清洗水的水位进行检测，

上述水位检测传感器在上述副水箱的内表面具备公共电极和水位电极，

上述控制部为如下结构：对上述公共电极与上述水位电极之间施加直流电流，根据电压的变化来检测水位，

上述公共电极和上述水位电极配置在不同的面。

5.根据权利要求4所述的卫生清洗装置，其中，

上述公共电极和上述水位电极配置在对置的面。

6.根据权利要求4所述的卫生清洗装置，其中，

上述副水箱还具备在满水状态下由上述副水箱的顶面的一部分和存积在上述副水箱内的上述清洗水的水面形成的、上述清洗水不进入的密闭空间，

上述水位电极配置在形成上述密闭空间的上述顶面。

7.根据权利要求4所述的卫生清洗装置，其中，

上述控制部使直流电流的极性周期地反转而施加于上述公共电极与上述水位电极之间。