[发明专利]用于提供涂覆材料的装置

权利要求书

1.一种用于提供涂覆材料的装置，该装置包括：涂覆单元(10)；用于将涂覆材料(21)从材料源输送到涂覆单元(10)的输送单元(22)；多个修改单元(26、28、30、52；32、34、36、38、40、42；18)，所述多个修改单元能够对涂覆材料(21)的流动路径和/或品质产生影响，其中，输送单元(22)和修改单元(26、28、30、52；32、34、36、38、40、42；18)具有不同的工作模式，该不同的工作模式能够通过控制信号设定，

其特征在于，

所述修改单元(26、28、30、52；32、34、36、38、40、42；18)分别具有多个离散的能够通过控制信号独立地设定的工作模式，所述修改单元分别包括可控的调整单元(68、70)，该调整单元分别根据获得的控制信号来设定、监控和维持相应的工作参数，调整单元(68、70)具有存储器(70)，在该存储器中针对不同的工作模式存储用于修改单元(26、28、30、52；32、34、36、38、40、42；18)的控制信号，

所述修改单元(26、28、30、52；32、34、36、38、40、42；18)具有至少一个阀布置结构(26、28、30、52)，该至少一个阀布置结构预定路径的一部分，在该路径上输送涂覆材料(21)流，以及

所述阀布置结构(26、28、30、52)能够预定短路流动路径，该短路流动路径从输送单元(22)的出口返回到其入口，从而输送单元能够被单独地设定作为涂覆材料的循环路径。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述输送单元(22)包括可控的调整单元(54)，该调整单元与中央控制单元(24)共同工作。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述阀布置结构(26、28、30、52)预定工作流动路径，该工作流动路径从存储容器(20)通过涂覆单元(10)返回到存储容器(20)。

4.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述阀布置结构(26、28、30、52)能够预定至少一个备用流动路径，该至少一个备用流动路径从存储容器(20)通过输送单元(22)返回到存储容器(20)或从输送单元(22)延伸到涂覆单元(10)并从该涂覆单元返回到输送单元(22)。

5.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述修改单元还包括至少一个在下组中列举的单元：压力调整单元(32)、加热单元(34)、混合单元(36)、搅拌单元(38)、排气单元(40)、流量分配单元(42)、定位单元(18)。

6.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述输送单元(22)的入口能够选择性地与多个存储容器(20)之一连接。

7.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，设有至少一个另外的修改单元(16)，该至少一个另外的修改单元包括可控的调整单元(54)，用于根据设备的相应设定的工作模式改变涂覆单元(10)的位置。

8.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，中央控制单元(24)与输送单元(22)组合成一结构单元。