[发明专利]紫外光均匀分布的流体处理的系统和方法

权利要求书

1.一种流体处理系统，包括：

流通室，在其内部包含流动的流体，所述流通室具有(i)流体入口、(ii)流体出口、(iii)布置在所述流体入口和流体出口之间并且流体地耦合至所述流体入口和流体出口的处理区域，以及(iv)使得紫外(UV)光发生漫反射的内表面；

布置在所述流通室的第一端的第一端盖，所述第一端盖具有使得UV光发生漫反射的侧壁；

布置在与所述流通室的所述第一端相对的所述流通室的第二端的第二端盖，所述第二端盖具有使得UV光发生漫反射的侧壁；

布置在所述流通室和所述第一端盖之间的第一窗口，所述第一窗口(i)大致防止流体流入所述第一端盖并且(ii)使得UV光大致透过；

布置在所述流通室和所述第二端盖之间的第二窗口，所述第二窗口(i)大致防止流体流入所述第二端盖并且(ii)使得UV光大致透过；

一个或多个第一UV光源，其被布置在所述第一端盖的外部并且定位为将UV光射入所述第一端盖，所述第一端盖的侧壁被配置为使得UV光的至少一部分漫反射进入所述处理区域；

一个或多个第二UV光源，其被布置在所述第二端盖的外部并且定位为将UV光射入所述第二端盖，所述第二端盖的侧壁被配置为使得UV光的至少一部分漫反射进入所述处理区域，

第三窗口，其布置在所述一个或多个第一UV光源中的每一个和所述第一端盖的内部之间，每个第三窗口(i)被布置在所述第一端盖的侧壁内并且(ii)使得UV光大致透过；以及

第四窗口，其布置在所述一个或多个第二UV光源中的每一个和所述第二端盖的内部之间，每个第四窗口(i)被布置在所述第二端盖的侧壁内并且(ii)使得UV光大致透过。

2.根据权利要求1所述的流体处理系统，还包括被定位为将UV光直接射入处理区域的一个或多个第三UV光源，UV光通过所述流通室的内表面发生漫反射。

3.根据权利要求2所述的流体处理系统，还包括布置在所述第三UV光源中的每一个和所述处理区域之间的第五窗口，每个第五窗口(i)被布置在所述处理区域的侧壁内并且(ii)使得UV光大致透光。

4.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述第一端盖被定形为截头锥体，其具有远离所述处理区域布置的大致平坦的端部表面，所述第一端盖的端部表面的面积小于所述第一窗口的面积。

5.根据权利要求4所述的流体处理系统，其中，所述第一端盖的端部表面使得UV光发生漫反射。

6.根据权利要求4所述的流体处理系统，其中，所述第一端盖的端部表面使得UV光发生镜面反射。

7.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述第二端盖被定形为截头锥体，其具有远离所述处理区域布置的大致平坦的端部表面，所述第二端盖的端部表面的面积小于所述第二窗口的面积。

8.根据权利要求7所述的流体处理系统，其中，所述第二端盖的端部表面使得UV光发生漫反射。

9.根据权利要求7所述的流体处理系统，其中，所述第二端盖的端部表面使得UV光发生镜面反射。

10.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述第一UV光源和所述第二UV光源中的每一个包括发光二极管。

11.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述流通室的大致垂直于所述流体入口和所述流体出口之间的流动方向的周界为大致圆形。

12.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述流通室的大致垂直于所述流体入口和所述流体出口之间的流动方向的周界限定n边形，其中，n＝3至18。

13.根据权利要求12所述的流体处理系统，其中，所述流通室的大致垂直于所述流体入口和所述流体出口之间的流动方向的周界为大致六边形。