[发明专利]感光性树脂组合物、感光性元件、半导体装置和抗蚀剂图案的形成方法

权利要求书

1.一种感光性树脂组合物，其含有

(A)成分：具有酚羟基的树脂；

(B)成分：具有2个以上选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、缩水甘油氧 基和羟基中的1种以上官能团的脂肪族化合物；

(C)成分：光敏性酸产生剂；以及

(D)成分：平均粒径小于或等于100nm的无机填料。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，所述(B)成分是具有3个以 上选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、缩水甘油氧基和羟基中的1种以上官能 团的脂肪族化合物。

3.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物，其进一步含有(E)成分： 具有选自由芳香环、杂环和脂环组成的组中的至少1种且具有羟甲基或烷氧基 烷基的化合物。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的感光性树脂组合物，相对于所述(A) 成分100质量份，含有所述(B)成分20～70质量份。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的感光性树脂组合物，所述(D)成分为 二氧化硅。

6.一种感光性元件，其具备支撑体和设于该支撑体上的感光层，

所述感光层使用权利要求1～5中任一项所述的感光性树脂组合物形成。

7.权利要求1～5中任一项所述的感光性树脂组合物的固化物。

8.一种抗蚀剂图案的形成方法，其包括：

将权利要求1～5中任一项所述的感光性树脂组合物涂布于基材上，并将所 述感光性树脂组合物干燥而形成感光层的工序；

将所述感光层曝光成预定的图案，曝光后进行加热处理的工序；以及

将加热处理后的感光层显影，并对得到的树脂图案进行加热处理的工序。

9.一种抗蚀剂图案的形成方法，其包括：

在基板上形成权利要求6所述的感光性元件的感光层的工序；

将所述感光层曝光成预定的图案，曝光后进行加热处理的工序；以及

将加热处理后的感光层显影，并对得到的树脂图案进行加热处理的工序。