[发明专利]防污染阱以及真空应用装置有效
| 申请号： | 201480045594.6 | 申请日： | 2014-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN105474348B | 公开（公告）日： | 2018-02-23 |
| 发明（设计）人： | 水尾考志;丹波裕介;波多野治彦;二村和孝 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/16 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 张敬强,严星铁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 污染 以及 真空 应用 装置 | ||
1.一种防污染阱，在真空应用装置的真空试样室的内部配置有其冷却部，其特征在于，
具备向上述冷却部的内部供给制冷剂的导入管、和排出上述冷却部的内部的气化制冷剂的排出管，
在上述导入管的内部插入有上述排出管。
2.根据权利要求1所述的防污染阱，其特征在于，
具备调整上述导入管的位置的调整部。
3.根据权利要求1所述的防污染阱，其特征在于，
上述冷却部由导热率比上述导入管高的材质构成。
4.根据权利要求1所述的防污染阱，其特征在于，
上述冷却部由无氧铜或者铝构成。
5.根据权利要求1所述的防污染阱，其特征在于，
上述冷却部是半球状、中心部凹下的U字形状、上下具有板状部的形状、或者下部具有板状部的形状。
6.根据权利要求1所述的防污染阱，其特征在于，
上述制冷剂是液体氮。
7.根据权利要求1所述的防污染阱，其特征在于，
具备保持上述制冷剂的内侧冷却罐、和隔着隔热部收纳该内侧冷却罐的外侧冷却罐，上述隔热部与上述真空试样室在空间上连接。
8.一种真空应用装置，具备防污染阱，且在其真空试样室的内部配置有上述防污染阱的冷却部，上述真空应用装置的特征在于，
具备向上述冷却部的内部供给制冷剂的导入管、和排出上述冷却部的内部的气化制冷剂的排出管，
在上述导入管的内部插入有上述排出管。
9.根据权利要求8所述的真空应用装置，其特征在于，
具备调整上述导入管的位置的调整部。
10.根据权利要求8所述的真空应用装置，其特征在于，
上述冷却部由导热率比上述导入管高的材质构成。
11.根据权利要求8所述的真空应用装置，其特征在于，
上述冷却部由无氧铜或者铝构成。
12.根据权利要求8所述的真空应用装置，其特征在于，
上述冷却部是半球状、中心部凹下的U字形状、上下具有板状部的形状、或者下部具有板状部的形状。
13.根据权利要求8所述的真空应用装置，其特征在于，
上述制冷剂是液体氮。
14.根据权利要求8所述的真空应用装置，其特征在于，
具备保持上述制冷剂的内侧冷却罐、和隔着隔热部收纳该内侧冷却罐的外侧冷却罐，上述隔热部与上述真空试样室在空间上连接。
15.根据权利要求8所述的真空应用装置，其特征在于，
具备用与上述制冷剂相同种类的制冷剂冷却试样的冷却支架。
16.根据权利要求8所述的真空应用装置，其特征在于，
该真空应用装置是在物镜的上磁极与外磁极之间配置试样的带电粒子线装置。
17.根据权利要求8所述的真空应用装置，其特征在于，
该真空应用装置是使电子束透过薄膜试样的透射电子显微镜。
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