[发明专利]低颗粒气体封闭系统和方法

权利要求书

1.一种气体封闭系统，包括：

气体封闭组件，其限定包含气体的内部；

收容在所述气体封闭组件内的工业印刷系统，所述工业印刷系统包括：

包括至少一个印刷头的印刷头组件；

基板支撑设备；以及

用于收容服务束的服务束壳体，所述服务束操作上连接到所述印刷系统；

服务束壳体排放系统，其用于排放靠近所述服务束壳体的气体使之远离所述基板支撑设备；以及

印刷头组件排放系统，所述印刷头组件排放系统用于排放靠近所述印刷头组件的气体使之远离所述基板支撑设备。

2.如权利要求1所述的气体封闭系统，其特征在于，所述气体封闭组件还包括：

用于收容所述印刷系统的印刷系统包围件；以及

辅助包围件，其中，所述辅助包围件被配置成与所述印刷系统可密封地隔离。

3.如权利要求1所述的气体封闭系统，其特征在于，所述气体为惰性气体。

4.如权利要求3所述的气体封闭系统，其特征在于，所述惰性气体选自氮气、稀有气体中的任何稀有气体及其组合。

5.如权利要求1所述的气体封闭系统，其特征在于，所述气体为清洁干燥空气。

6.如权利要求1所述的气体封闭系统，还包括气体净化系统。

7.如权利要求6所述的气体封闭系统，其特征在于，所述气体净化系统将所述气体维持在反应性物种中的每一种小于100ppm。

8.如权利要求7所述的气体封闭系统，其特征在于，所述反应性物种选自水蒸气和氧气。

9.如权利要求1所述的气体封闭系统，其特征在于，所述服务束壳体排放系统与气体循环和过滤系统流体连通。

10.如权利要求1所述的气体封闭系统，其特征在于，所述印刷头组件排放系统与气体循环和过滤系统流体连通。

11.如权利要求1所述的气体封闭系统，其特征在于，所述基板支撑设备包括浮选台。

12.如权利要求1所述的气体封闭系统，其特征在于，用于使基板移动通过印刷系统的运动系统为空气轴承运动系统。

13.如权利要求1所述的气体封闭系统，其特征在于，所述基板支撑设备能够支撑尺寸范围从3.5代至10代的基板。

14.一种气体封闭系统，包括：

气体封闭组件，其限定包含气体的内部；

收容在所述气体封闭组件内的工业印刷系统，所述工业印刷系统包括：

包括至少一个印刷头的印刷头组件；

基板支撑设备；

用于所述印刷头组件相对于支撑在所述基板支撑设备上的基板的精确定位的运动系统；以及

用于收容服务束的服务束壳体，所述服务束操作上连接到所述印刷系统；以及

服务束壳体排放系统，其用于排放靠近所述服务束壳体的气体使之远离所述基板；

其中，低颗粒环境被维持在提供如下平均基板上颗粒分布的所述气体封闭系统中，即：所述平均基板上颗粒分布符合对于在尺寸上大于或等于2μm的颗粒而言每分钟每平方米的基板小于或等于100个颗粒的基板上沉积速率规范。

15.如权利要求14所述的气体封闭系统，其特征在于，所述平均基板上颗粒分布符合对于在尺寸上大于或等于0.3μm的颗粒而言每分钟每平方米的基板小于或等于1000个颗粒的基板上沉积速率规范。

16.如权利要求14所述的气体封闭系统，其特征在于，所述服务束壳体排放系统与气体循环和过滤系统流体连通。

17.如权利要求14所述的气体封闭系统，还包括印刷头组件排放系统，所述印刷头组件排放系统用于排放靠近所述印刷头组件的气体使之远离所述基板支撑设备。

18.如权利要求17所述的气体封闭系统，其特征在于，所述印刷头组件排放系统与气体循环和过滤系统流体连通。

19.如权利要求14所述的气体封闭系统，其特征在于，所述运动系统为分轴运动系统。

20.如权利要求19所述的气体封闭系统，其特征在于，所述分轴运动系统包括空气轴承运动系统。