[发明专利]用于工艺环上的稀土氧化物基薄膜涂层的离子辅助沉积

权利要求书

1.一种用于蚀刻反应器的腔室部件，包括：

环形主体，所述环形主体包括氧化物基陶瓷、氮化物基陶瓷或碳化物基陶瓷中的至少一者，其中所述环形主体是包括顶部平坦区域、环内侧和环外侧的烧结陶瓷体，其中所述环内侧包括大致竖直壁；以及

保护层，所述保护层在所述环形主体的至少所述顶部平坦区域、所述环内侧和所述环外侧上，其中，所述保护层是包含抗等离子体的稀土氧化物的共形层，具有小于1％的孔隙度，具有小于6微英寸的平均表面粗糙度，并且在所述顶部平坦区域上具有小于300微米的第一厚度且在所述环内侧的所述大致竖直壁上具有第二厚度，其中所述第二厚度是所述第一厚度的45-70％。

2.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述保护层包括以下各项中的至少一者：Y₃Al₅O₁₂、Y₄Al₂O₉、Er₂O₃、Gd₂O₃、Er₃Al₅O₁₂、Gd₃Al₅O₁₂、YF₃、Nd₂O₃、Er₄Al₂O₉、ErAlO₃、Gd₄Al₂O₉、GdAlO₃、Nd₃Al₅O₁₂、Nd₄Al₂O₉、NdAlO₃、或包含Y₄Al₂O₉与Y₂O₃-ZrO₂固溶体的陶瓷化合物。

3.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述保护层具有5微米至15微米的厚度。

4.如权利要求1所述的腔室部件，其中，所述保护层包括包含Y₄Al₂O₉与Y₂O₃-ZrO₂固溶体的陶瓷化合物，其中，所述陶瓷化合物具有选自由下列各项组成的列表的组分：

40～100摩尔％的Y₂O₃、0～60摩尔％的ZrO₂以及0～10摩尔％的Al₂O₃；

40～60摩尔％的Y₂O₃、30～50摩尔％的ZrO₂以及10～20摩尔％的Al₂O₃；

40～50摩尔％的Y₂O₃、20～40摩尔％的ZrO₂以及20～40摩尔％的Al₂O₃；

70～90摩尔％的Y₂O₃、0～20摩尔％的ZrO₂以及10～20摩尔％的Al₂O₃；

60～80摩尔％的Y₂O₃、0～10摩尔％的ZrO₂以及20～40摩尔％的Al₂O₃；以及

40～60摩尔％的Y₂O₃、0～20摩尔％的ZrO₂以及30～40摩尔％的Al₂O₃。