[发明专利]辐射检测器、闪烁体板和制造它们的方法

权利要求书

1.一种辐射检测器，包括：

光电转换基板，将光转换为电信号；以及

闪烁体层，与所述光电转换基板接触且将外部入射的辐射转换为光，

所述闪烁体层由在作为卤化物的CsI中含有Tl作为激活剂的磷光体制成，所述磷光体中的激活剂的浓度是1.6mass％±0.4mass％，且在平面内方向和膜厚度方向上的所述激活剂的浓度分布为±15％内。

2.如权利要求1所述辐射检测器，其特征在于，在所述闪烁体层中，所述平面内方向和所述膜厚度方向上的所述激活剂的浓度分布在200nm或更低的单位膜厚度的区域中为±15％或更低。

3.如权利要求1所述辐射检测器，其特征在于，所述闪烁体层具有柱状晶体结构。

4.一种制造辐射检测器的方法，所述辐射检测器包括：光电转换基板，将光转换为电信号；以及闪烁体层，与所述光电转换基板接触并将外部入射的辐射转换为光，

所述闪烁体层是磷光体，所述磷光体在作为卤化物的CsI中含有作为激活剂的Tl，

所述方法包括：

通过气相生长技术使用CsI和Tl的材料源来形成所述闪烁体层，所述磷光体中的激活剂的浓度是1.6mass％±0.4mass％，且在平面内方向和膜厚度方向上的所述激活剂的浓度分布为±15％内。

5.一种闪烁体板，包括：

支承基板，能透射辐射；以及

闪烁体层，与所述支承基板接触且将外部入射的辐射转换为光，

所述闪烁体层由在作为卤化物的CsI中含有Tl作为激活剂的磷光体制成，所述磷光体中的激活剂的浓度是1.6mass％±0.4mass％，且在平面内方向和膜厚度方向上的所述激活剂的浓度分布为±15％内。

6.如权利要求5所述的闪烁体板，其特征在于，在所述闪烁体层中，所述平面内方向和所述膜厚度方向上的所述激活剂的浓度分布在200nm或更低的单位膜厚度的区域中为±15％或更低。

7.如权利要求5所述闪烁体板，其特征在于，所述闪烁体层具有柱状晶体结构。

8.如权利要求5所述闪烁体板，其特征在于，从主要由轻元素而不是过渡金属元素组成的材料来形成所述支承基板。

9.一种用于制造闪烁体板的方法，所述闪烁体板包括：支承基板，能透射辐射；以及闪烁体层，与所述支承基板接触且将外部入射的辐射转换为光，

所述闪烁体层是磷光体，所述磷光体在作为卤化物的CsI中含有作为激活剂的Tl，

所述方法包括：

通过气相生长技术使用CsI和Tl的材料源来形成所述闪烁体层，所述磷光体中的激活剂的浓度是1.6mass％±0.4mass％，且在平面内方向和膜厚度方向上的所述激活剂的浓度分布为±15％内。