[发明专利]遮光性颜料组合物和显示器用遮光性构件

说明书

技术领域

本发明涉及高绝缘性、低介电常数且光学浓度高、能够实现液晶显示元件的稳定驱动的遮光性颜料组合物以及使用该遮光性颜料组合物的显示器用遮光性构件。

背景技术

近年来，在液晶显示装置的领域中，导入了使滤色器基板与TFT(ThinFilmTransistor：薄膜晶体管)阵列基板一体化而成的阵列上滤色器(ColorfilterOnArray(COA))的液晶面板备受瞩目。若使用阵列上滤色器，则无需在使用上述两个基板时进行的精密对位，同时能够将滤色器的红、蓝、绿各像素微细化至极限，从而能够实现液晶面板的高精细化。

对这样的阵列上滤色器用的树脂黑矩阵，需要高遮光性，因此要求厚膜化。然而，随着树脂黑矩阵的膜厚增大，被曝光部分相对于膜厚方向的交联密度差扩大，因此难以实现高灵敏度化并得到形状良好的黑色图案。此外，作为高遮光化的方法，也尝试了大量使用遮光材的方法，但当使用碳等导电性材料作为遮光材时，存在黑矩阵的相对介电常数变高、体积电阻降低，从而使显示装置的可靠性降低的问题。

为了消除这样的缺点，最近正在积极进行遮光材使用黑色有机颜料组合物(有机黑矩阵)以代替碳黑的尝试，所述黑色有机颜料组合物通过混合各有机颜料以成为黑色而得。

专利文献1中，记载了通过在黑矩阵中使用含有苯并咪唑酮二嗪颜料的遮光性组合物，从而具有高遮光性。此外，专利文献2中记载了一种遮光膜形成用着色树脂组合物，其特征在于，是由黄色颜料、蓝色颜料、紫色颜料的组合，或由黄色颜料、红色颜料和蓝色颜料的组合构成的准黑色化的混色有机颜料。进而，专利文献3中记载了将具有某特定的比表面积的蓝色、黄色、红色的各种有机颜料混合而成的黑矩阵用有机颜料组合物、以及包含它们的黑矩阵用感光性组合物。

然而，这些最近的尝试中，与以往使用了碳黑的黑矩阵相比，OD(光密度(OpticalDensity))值仍然低，存在无法实现能耐受实用的遮光性这样的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-257204号公报

专利文献2：日本特开平9-302265号公报

专利文献3：日本特开2012-32697号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明所要解决的课题在于，提供一种能够满足高绝缘性、低介电常数且高光学浓度的遮光性颜料组合物以及包含该遮光性颜料组合物的显示器用遮光性构件。

用于解决课题的方法

本发明人等鉴于上述实际情况进行了深入研究，结果发现，通过在显示器用遮光性构件中使用以特定比例含有具有特定结构的苯并咪唑酮二嗪系颜料、苯并咪唑酮系颜料和咔唑二嗪系颜料的遮光性颜料组合物，使得介电常数低、遮光性高，从而完成了本发明。

本发明提供一种遮光性颜料组合物，其特征在于，含有下述通式(1)所表示的苯并咪唑酮二嗪系颜料5～80重量％、包含下述通式(2)和通式(3)的化学结构的苯并咪唑酮系颜料20～50重量％，进而含有包含至少一个以上的下述通式(4)～(6)的化学结构的咔唑二嗪系颜料5～80重量％。

[化1]

(式中，R₁～R₄各自表示氢原子或可具有取代基的一价烃基，X₁表示氢原子或卤原子。)

[化2]

(式中，R₅～R₇各自表示氢原子或卤原子或可具有取代基的一价烃基。)

[化3]

[化4]

[化5]

[化6]

(式中，X₂表示氢原子或卤原子，R₈表示氢原子或可具有取代基的一价烃基。)

此外，本发明提供权利要求1所述的遮光性颜料组合物，所述苯并咪唑酮二嗪系颜料为C.I.颜料蓝80。

此外，本发明提供权利要求1所述的遮光性颜料组合物，所述苯并咪唑酮系颜料为选自C.I.颜料橙36、C.I.颜料橙60、C.I.颜料橙62、C.I.颜料橙64、C.I.颜料橙72的至少一种的有机颜料。

此外，本发明提供权利要求1所述的遮光性颜料组合物，所述咔唑二嗪系颜料为C.I.颜料紫23。

此外，本发明提供一种显示器用遮光性构件，含有前述的任一种遮光性颜料组合物。