[发明专利]电化学沉积设备和用于控制其中的化学反应的方法

权利要求书

1.一种电化学沉积系统，包括：

被布置在公共平台上的一个或更多个电化学沉积模块，所述一个或更多个电化学沉积模块用于将一种或更多种金属沉积在基底上；以及

化学品管理系统，所述化学品管理系统被耦接至所述一个或更多个电化学沉积模块并且被配置成向所述一个或更多个电化学沉积模块中的至少一个电化学沉积模块提供用于沉积所述一种或更多种金属的一种或更多种金属成分，所述化学品管理系统包括：

至少一个金属富集槽，所述至少一个金属富集槽补给所述一种或更多种金属成分中的至少一种金属成分，并且以与将所述一种或更多种金属沉积在所述基底上同步的方式将所补给的金属成分供应至所述一个或更多个电化学沉积模块中的至少一个电化学沉积模块，以及

至少一个金属浓缩物产生器槽，所述至少一个金属浓缩物产生器槽产生所述一种或更多种金属成分中的至少一种金属成分的浓缩溶液，并且以与将所述一种或更多种金属沉积在所述基底上异步的方式或同步的方式将浓缩的所述金属成分定量给料至所述一个或更多个电化学沉积模块中的至少一个电化学沉积模块。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述化学品管理系统位于所述公共平台上，靠近所述一个或更多个电化学沉积模块。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述公共平台位于晶片制造设备层上，并且所述化学品管理系统位于子晶片制造设备层上。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述公共平台包括：

湿润区，所述湿润区包括所述一个或更多个电化学沉积模块；以及

干燥区，所述干燥区被耦接至所述湿润区，并且所述干燥区被配置成接收来自晶片制造设备环境的一个或更多个基底并且将所述一个或更多个基底移入所述湿润区中以及从所述湿润区移出。

5.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个金属浓缩物产生器槽产生金属浓度超过约100g/l的所述浓缩溶液。

6.根据权利要求1所述的系统，其中，所述金属富集槽补给所述一种或更多种金属成分中的金属浓度小于约100g/l的所述至少一种金属成分。

7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述一个或更多个电化学沉积模块中的至少一个电化学沉积模块包括可溶阳极。

8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述一个或更多个电化学沉积模块中的至少一个电化学沉积模块包括不可溶阳极。

9.根据权利要求1所述的系统，其中，所述一个或更多个电化学沉积模块中的至少一个电化学沉积模块包括离子交换膜。

10.根据权利要求9所述的系统，其中，所述离子交换膜包括阳离子膜或阴离子膜。

11.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个金属浓缩物产生器槽包括：

金属浓缩物产生器槽，所述金属浓缩物产生器槽限定阳极区、阴极区以及布置在所述阳极区与所述阴极区之间的金属离子捕获区，所述金属浓缩物产生器槽包括：布置在所述阳极区中的可溶阳极；布置在所述阴极区中的惰性阴极；布置在所述阳极区与所述金属离子捕获区之间的第一离子交换膜；以及布置在所述阴极区与所述金属离子捕获区之间的第二离子交换膜；

电源，所述电源被电耦接至所述可溶阳极和所述惰性阴极，当电流在所述可溶阳极与所述惰性阴极之间流动时所述电源从所述可溶阳极产生金属离子；

阳极电解液储器和第一泵，所述第一泵使阳极电解液循环通过所述金属浓缩物产生器槽的所述阳极区；以及

金属浓缩物分配系统，所述金属浓缩物分配系统经由第一阀被耦接至所述第一泵的输出端，并且被布置成向所述一个或更多个电化学沉积模块中的至少一个电化学沉积模块提供对所述金属浓缩物的定量给料。