[发明专利]脱模膜有效
| 申请号: | 201480037650.1 | 申请日: | 2014-07-31 |
| 公开(公告)号: | CN105359634B | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
| 发明(设计)人: | 中尾洋祐;土谷雅弘;宇都航平 | 申请(专利权)人: | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 脱模 | ||
1.一种脱模膜,其特征在于,适合于柔性电路基板的制造,
所述脱模膜包含具有2个脱模层和中间层的多层膜,所述2个脱模层分别构成表面和背面,
所述脱模膜的表面和背面被粗面化,
所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且20μm以下,并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上,
其中,不包括所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且5μm以下、并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上且36μm以下的情况。
2.如权利要求1所述的脱模膜,其特征在于,
构成表面的脱模层的厚度为1μm以上且20μm以下。
3.如权利要求1或2所述的脱模膜,其特征在于,
背面的十点平均粗糙度Rz为1μm以上且45μm以下。
4.如权利要求1或2所述的脱模膜,其特征在于,
分别构成表面和背面的2个脱模层的合计厚度在脱模膜的厚度中占有超过一半的厚度。
5.如权利要求1或2所述的脱模膜,其特征在于,
分别构成表面和背面的2个脱模层中,构成表面的脱模层含有聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂。
6.如权利要求1或2所述的脱模膜,其特征在于,
表面的光泽面比率为35%以上且85%以下。
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